PLC在激光法制备纳米级氮化硅生产线自动控制系统中的应用.pdfVIP

增 刊 浙 江 大 学 学、报(自然科学版’ Suppl…。。 1 !竺：!!：!!墨兰竺：： 』!竺!!塑 2业生§旦 』Q丛!垒!!Q!兰垫!】ii旦g堕旦i∑!￡§!!Y PLC在激光法制备纳米级氮化硅生产线 自动控制系统中的应用 张晓江 张崇巍 陈荣保 董学平 (合肥工业大学自动化研究所．台珏艮．230009) 摘要 C200H型P1．C的应用情况．i寸该 本文介绍了纳米级氯化硅粉末生产T艺流程和()MR()N 生产线自动控制亲统中PI。C的功能．与上位机通讯．梯型图设计．I．ss软件应用等方面的某些 问题作了分析．指出了OMRONc系列P1．(、在实际使用中的优点和不足之处．。 关键词：可编程序控制器；纳米氮化硅；生产过程控制 中圉法分类号：TP273 f)OMRONC200H型PLC的特点 C200H型可编程控制器是日本OMRON(立石)公司生产的SYSMACC系列PLC中 n々一种．它最多可控制384个I／O点，同时也可配置通讯接口模块和智能I／O模块．由于 f)MRONC200H型PLC与其它品牌的同级别产品相比具有较高的性能／价格比，因此它在 我国已经获碍广泛的应用．我们在淮南纳米级氮化硅生产线上就选用了这种PLC． C200HPLC系统为模块式结构(图1)．其组成是一个或若干个母板(相互之间用专用 的电缆线连接)，CPU模块．I／O模块及通讯模块等都插在母扳上，安装维护都很方便．用于 Support 手持编程器输入，或在计算机上使用LSS(LadderSoftware)软件直接用梯形图编 程，再由计算机通过串行通讯馍块输入到用户存储器模块． 1激光法生产纳米氮化硅流程简述 纳米级氮化硅粉末是高强度工业陶瓷的新型添加剂．是制造陶瓷玎具．陶瓷汽缸等新型 工业陶瓷器具的新材料．目前．世界}双有少教发达国家才能生产出纳卡级的氮f￡硅粉末． 使用激光法生产纳米氯化硅粉末的系统流稷l_{}l如图2： 硅烷和氯气在混气室混合之后从喷嘴嗤出．高纯氯气在阎嘲喷出形成保护屡．两台大功 766 浙 江 大’ 学 学 报(自然科学版) 1998年 图l C200HPI．C结构候图 放 图2系统流程示意图 率激光器发出的激光束经过复杂的光学系统聚焦在喷嘴之上，使两种工作气体在合成室内 激光的催化之下进行反应生成纳米级超细氮化硅粉末，在收集仓内实现尾气和粉末的分离． 该生产线对控制系统的要求是：按照工艺要求在起动、正常运行、停车等不同阶段以一 定的顺序打开或关闭各台套泵、阀门、激光器、光闸、电动机等设备．同时，通过调节尾排气动 薄膜调节阀的开度来控制合成室的压力，使它保持在工艺要求的范围内．同时控制系统还要 监测系统各参数，当发生事故时根据不同情况自动采取相应的措施以确保人员和设备安全． 2 纳米氮化硅生产线集散控制系统 根据厂家提出的要求和生产线工艺特点，我们设计了手动和自动两套控制电路．其结构 框图如图3所示． OMRONC200H PLC在本系统中的作用是：在自动控制方式时，对开关量信号进行控 制，在恰当的时刻打开或关闭某台设备．它还要与主工控机和副工控机进行通讯，接受命令 和生产过程中的各种信息．并使主工控机对它的动作情况以及各台设备开关到位情况进行 监视，并且通过显示器进行图形显示，通过打印饥对生产过程中的一些重要参数打印存挡． 副工控饥的任务是合成室压力控制和对各模拟量信号的采集． 增 刊