等离子体加工光学元件工艺研究.pdfVIP

维普资讯 第37卷 第 1期 2008年2月 表面技术 VO1．37 No．1 Feb．2008 SURFACE TECHNOL0GY 》工艺研究 》 1．、 -、 -、 -、 等离子体加工光学元件工艺研究 王颖男，杭凌侠，胡敏达 (西安工业大学薄膜技术与光学检测重点实验室，陕西 西安 710032) [摘 要] 为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件，引入一种新型的超光滑表面加工技术——等 离子体抛光。介绍了 有关等离子体刻蚀的研究进展以及去除机理，在已经设计好的实验平台上进行等离-t-4~ x-x-艺实验，对影响去除效果的参数进行 了实验研究，最后进行工艺参数优化。结果表明此技术能够应用于对光学元件的加工。 [关键词] 超光滑表面；等离子体抛光；电容耦合放电；表面粗糙度；去除速率 【中图分类号]TG174．444 [文献标识码]A [文章编号]1001—3660(2008)O1