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金属学与金属工艺
2009年 10月 金刚石与磨料磨具工程 0ct.20o9
第5期 总第 173期 Diamond AbrasivesEngineering No.5 Seria1.173
文章编号:1006—852X(2009)O5—0013—04
大孑L径 内孑L表面金刚石薄膜涂层的制备
郑 华 ,孙方宏 ,彭东辉
(1.上海交通大学机械与动力工程学院,上海 200240)
(2.上海化工研究院,上海 200062)
摘 要 应用热丝化学气相沉积 (HFCVD)工艺,并采用合适的衬底预处理方法和优化的工艺参数,在
大孔径硬质合金内孔表面沉积了金刚石薄膜。分别采用SEM、EDS和喇曼光谱依次对衬底预处理前后
内孔表面及沉积的金刚石薄膜进行了表征,并通过压痕实验评估了薄膜的附着强度。该压痕实验结果
与薄膜的SEM及喇曼光谱表征的结果具有一致性。结果表明:采用合适的衬底预处理方法和优化的
HFCVD工艺,可以在大孔径硬质合金内孔表面沉积高质量的金刚石薄膜。
关键词 金刚石薄膜 ;衬底预处理;热丝化学气相沉积
中图分类号 TQ164 文献标识码 A
Fabrication ofdiamondfilmson theinteriorsurfaceoflargehole
ZhengHua SunFanghong PengDonghui
(1.SchoolofMechanicalEngineering,ShanghaiJiaoTongUniversity,Shanghai200240,China)
(2.ShanghaiResearchInstituteofChemcialIndustry,Shanghai200062,China)
Abstract DiamondfilmsweredepositedontheinteriorholesurfaceoftheC0一cementedcarbidewithlarge
apertureusingsuitablesubstratepre——treatmentandoptimum process——parametersbyhtebias——enhancedhot
filamentchemicalvapordeposition (HFCVD) process.SEM,EDS and Raman spectrometerwere,
respectively,contributedtocharacterizingan—pretreatedandpretreatedsubstratesurfacesanddiamondfilms;
and the adhesion of the filmswasevaluated by RockwellHradness test,which was agreed by htose
chraacterizationsofSEM andRamanspectrometer.Resultsshowedthatsatisfied—qualitydiamondfilmscould
beobtainedoninteriorholesurfacesofW C—·Cosubstrateswithlargeaperturebyemployingoptimum substrate
pre—treatmentandHFCVD process.
Keywords diamondfilms;substratepre—treatment;HFCVD
的不断发展和完善,CVD金刚石薄膜的质量如致密
0 引言
度、均匀性、表面粗糙度及附着强度等方面的要求均得
采用化学气相沉积 (CVD)法可 以在多种金属或
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