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金属学与金属工艺
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罗 一弓
第 21巷 第4期 』L量 撮 V0【21 No 4
i99 年 i2月 rrheascH DeC. 】99
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离散多变量系统的一种实用MRAC方案
电鉴鬈览 呜 丁 、
摘 要 将连续系统越模 ‘取、卷 集摊 判 等彳T可测托动的离散多变 系统 算浃
对扰动具有鲁棒性 .将1是 ~控 嚣 臣 m斟 MRAC 统可不必预知系统毒数的宅化
范围 可选掸的适应律打 刚一
关键词 . 宴垩生丝 兰生Ll
分类号 XP_732
l 系统设计
被控对象为
_Y(+ 1)= lL、+Bulk)+Cd(k) (1)
式中. (1为n维 向量.ffc}eR fi(kJ~R .AeR .BeR 。.CeR :d(k 为已
知有界扰动 .
参考模型
(+1)= 川()+B 几k) (2)
.
式中. ()为 维向量. r(k)eR。-曰 eR .
设计控制器
“(良)=6(七){¨+F(k)X ()4- 膏【)(膏)j+P(膏)l) (3)
e(k) Y )一 () f41
假设上述控制器可使系统渐近跟踪 则必措足模型匹配条件
由式 (1).C3).(4)得等效误差方程
e(k+1)= A【 BP(k)]()4-A【—A 4-Ba(k)F(k1] C)+
B【G(k)一B 1+ G(k)Hfk)+C]( 5【)
若 +BP(k)为HtIrwitz矩阵.且G(膏)F ): 【 一 ].6(七)=B G(七)H 七【)
: 一 B+C可实现精确模型匹配.并有 i rC)=0 若 为未知阵或不稳定阵-可调节
.一
P().使A+BP(k)为稳定阵 .克服了文献 (1要求 为稳定阵并且参数变化范围已知的
缺点 更便于实际应用 .
. 令 S(k+11= +BP(k) T(k+1】=A一 +Ba(k)F(k)
M(k+1)=BG(k)一B....N(k4-1)=BG(k)H(k)+C
R(k+1)= 【k+l】:T(k4-1):M(k4-1): (+1)]
1997年9月 1日收到
维普资讯
辨4期 璺商 导
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Z(k 】1一 e(k): (kkH^): k
等效误差方程为
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