改善MEMS闪耀光栅衍射效率的研究.pdfVIP

维普资讯 第 31卷第 5期 光 电工程 Vo1．31．NO．5 2004年 5月 Opto—ElectronicEngineering M ay,2004 文章编号：1003—501X(2004)05—0024—04 改善MEMS闪耀光栅衍射效率的研究 李四华，吴亚明，韩晓峰 (中国科学院上海微系统与信息技术研究所，上海 200050) 摘要：研究了在硅材料上利用MEMS(Micro—Electro—MechanicalSystem)的各向异性腐蚀技术制备 闪耀光栅。采用氧化削尖工艺去除光栅制备过程中掩膜在闪耀面上留下的平台，得到一个连续的 闪耀面；同时对闪耀面进行表面抛光，改善闪耀面的粗糙度，减小对入射光的散射 理论分析和 实验测试证明，该工艺方法能够将MEMS闪耀光栅的衍射效率提高 10％左右。 关键词： 闪耀光栅；各向异性腐蚀；表面抛光；氧化削尖 中图分类号：0436．1 文献标识码：A StudyonimprovingdiffractionefficiencyofMEMSblazedgratings LISi·hua， WUYa-ming， HANXiao-feng (ShanghaiInstituteofMicrosystemandInformationTechnology， ChineseAcademyofSciences，Shanghai200050，China) Abstract：FabricationofblazedgratnigswithamsotroplcetchingMEMSonsiliconmaterialsISstudied． Inorderto improvethediffractionefficiencyofthegrating，anovelmethodhasbeen describedby meansofsurfacepolishingandoxidationsharpness．Withthenew method，theunblazedstripesbetween thegrooveshavebeenremovedsuccessfully．Andthereflectionsurfaceweresmoohtedathtesametime． Theoreticalanalysisandexperimentshavedemonsrtatedthatthetechnologycan improvediffraction efficiencyofMEM Sblazedgratingsforabout10％ orso． Keywords：Blazedgrating：Anisotropicetching；Surfacepolishing~Oxidationsharpness 引 言 衍射光栅是光学系统中广泛应用的重要衍射元件，也是光谱分析设备的核心器件。闪耀光栅作为衍射 光栅的一种，具有很高的光谱分辨力和衍射效率，成为实用衍射光栅的主要类型。近年，随着光纤通信的 快速发展，闪耀光栅在光通信中也得到广泛的应用 。因此，低成本 、高衍射效率闪耀光栅的制备技术具有 重大的经济价值和实际意义 。传统的闪耀光栅制作方法主要采用机械刻划技术 ¨】，真空镀膜复制法 ，全 息法制作 ，这些技术制作光栅成本较高 。随着硅微加工技术的发展与成熟 ，人们开始尝试在硅基底材料 上制作闪耀光栅 。1975年首次报道了利用硅加工技术制作光栅4【J，利用硅微加工技术制作的V—groove闪耀 光栅 和倾斜的V—groove闪耀光栅I圳也发展起来，自此硅光栅的应用得到的全面的发展 。 硅微加工技术制作光栅通常使用光刻工艺和各向异性腐蚀技术，这些工艺的实现都需要使用掩