环形阵列微变形镜两种设计准则的分析比较.pdfVIP

维普资讯 第33卷第 12期 光电工程 Vo1．33，No．12 2006年 l2月 Opto—ElectronicEngineering Dec．2006 文章编号：1003—501X(2006)12—0109—04 环形阵列微变形镜两种设计准则的分析比较 李开成，苑伟政，乔大勇，姜澄宇，李晓莹 (西北工业大学 微／纳米系统实验室，陕西 西安 7l0072) 摘要：在波前~Lff-中，环形阵列的分立式微变形镜充分利用了各个单元。环形阵列的分立式微变 形镜有等单元面积和等单元宽度两种设计准则，以37单元环形阵列微变形镜为例，从校正波前适 配误差和校正后剩余波前的Strehl比两方面对两种设计准则进行比较 结果表明，采用等单元面 积设计的环形微变形镜校正畸变波前的性能更好。特别是波前畸变严重时，这种效果更加明显。 关键词：微机电系统；环形微变形镜；波前适配误差；Strehl比 中图分类号：TN256 文献标识码：A Comparisonandanalysisoftwodesigncriteriaof ringarraymicrodeformablemirror LIKai-cheng，YUANWei-zheng，QIAODa—yong， JIANG Cheng—yu，LIXiao—ying (MicroandNanoSystemLaboratoty．Nol’thwesterllPolytechnicalUniversity，Xi’oH710072，China) Abstract：Thedesignofringarraymicrodeformablemizro‘rmakesitpossibletoutilizeeverysegment sufficientlyinthewavefrontcorrecting．Theringarraymicrodefolm‘ablemirl’orhastwodesigncriteria ～ theequalsegmentareaandtheequalsegmentwidth．Takingthel-ingarraymicrodeformablemirrorof thirty—sevensegmentsforexample，thetwodesigncriteriawerecomparedinthetermsofthewavefront fitting errorand the residualwavefiontStrehlratio aftercorl’ection．The results show thatthe performanceofring arraymicromirl’oroftheequalsegmentarea isbetterthan thatofring array micromirroroftheequalsegmentwidth，especiallywhenthewavefrontisdistortedseriously． Keywords：MEM S；Ringmicromirrol’：Wavefrontfittingerror；Strehlratio 引 言 微变形镜通过 自身儿何形状改变以实现对输入的畸变波前进行校正。由于ll向应频率高，可以实时动态 校正畸变波前，它成为自适应光学系统的关键器件。微变形镜加工最难的两个方面的要求是高的镜面平整 度和大的f中程。分立式微变形镜消除了驱动器之间的相互交联。MichaelA．Helmbrecht等认为分立式微变 形镜能哆最好满足上述两方面的要求… 分立式微变形镜一般有四种单元阵列方式，分别是方形阵列．砖形阵列、蜂窝形阵列和环形阵列2【】，如 图l所示。由于通常用定义在单位圆内的Zernike多项式表示波前 J，因此微变形镜阵列所围