纳米制造和测量技术产业化的研究.pdfVIP

维普资讯 第33卷第 l2期 光电工程 Vo1．33，No．12 2006年 I2月 Opto-ElectronicEngineering Dec．2006 文章编号：1003—501x(2oo6)12一ooI5-04 纳米制造和测量技术产业化的研究 李文萍 2，顾文琪 (1．中国科学院电工研究所，北京 l00080； 2．中国科学院研究生院，北京 l00039) 摘要：从加工尺度的连续性和加工技术的完整性这一新的角度，分析了纳米加工产业化面临的问 题，并提出了相应的解决方案一多离子柬聚焦投影技术 多离子束聚焦投影技术将填补传统微机 加工技术和半导体图形技术之间0．5～5lam的加工空白，并会在 l～lOOnm尺度间实现 自上至下技术 和自下至上技术的有机结合。纳米测量技术产业化的研究中，以提高扫描探针技术的样品质量作 为出发点。在聚焦离子柬和扫描电镜平台上集成 Ar离子束的 “三束”显微镜能有效降低样品的 损伤，大大推动了纳米测量技术的发展。 关键词：多离子柬聚焦投影；掩模板；纳米制造；纳米测量 中图分类号：TN305 文献标识码：A Researchonindustrializationofnanofabricationandnanometrology LIW en—ping一‘．GUW en-qi‘ (I．InstituteofElectricalEngineering,theChineseAcademyofSciences，Beijing100080，China； 2．GraduateSchooloftheChineseAcademyofSciences，Bering100039，China) Abstract：Scalecontinuityandtechnologicalintegralityofnanofabrication isstudiedinthispaper． Projectionfocusedionmulti-Beamwasbroughtforwardtosolveproblemsappearedinindustrialization ofnanofabrication．Itclosesthepresentlyexistingmachininggapof0．5~5lam betweentheclassical micro machining technologies and semiconductor patterning technologies．It has achieved the combinationoftop-downstructuringwithselectivebosom—upself-assemblytechniquesduringthescale of l~100nm．Asregardto nanometrology，scanning probetechnology isresealc‘hed in detail．A “three-beam”systemcaneffectivelyreducesampledamagebyintegratingArionbeam intoadual-beam system of focused ion beam and electron beam，which willaccelerate the development of nanometrology． Keywords：Projectionfocusedionmulti—beam；Maskplate；Nanofabrication；Nanometrology 引 言 纳米科技研究纳米领域的表面材料科学及其应用，