聚酰亚胺基纳米氟碳膜的结构和性能研究.pdfVIP

维普资讯 第 18卷第 4期 青 岛 大 学 学 报 Vo1．18No．4 2003年 12月 JOURNALOFQINGDAO UNIVERSITY Dec．2003 文章编号：1006—9798(2003)04—0063—04 聚酰亚胺基纳米氟碳膜的结构和性能研究 张浴晖， 齐宏进 (青岛大学化工学院，山东 青岛266071) 摘要 ：利用射频磁控溅射法，以聚四氟乙烯为靶材，在聚酰亚胺 (PI)薄膜上沉积纳米氟碳 膜。利用扫描电子显微镜 (SEM)、透射电子显微镜 (TEM)、原子力显微镜 (AFM)观察了 纳米氟碳膜的表面形貌。通过优化放电条件，在 PI薄膜上得到了一层致密均匀的由纳米 粒子组成的氟碳膜。利用 X射线光电子能谱 (XPS)研究 了膜的结构及其对放 电条件的 依赖性 。结果表明：这种纳米氟碳膜 由一CF。，一CF2一 ，一CF一 和 一C_一4个组分构 成。水接触角的测量数据表明：在 PI基底上沉积纳米氟碳膜可以提高其憎水性能。 关键词 ：射频磁控溅射 ；纳米氟碳膜 ；表面形貌 ；表面结构 ；接触角 中图分类号：TQ323．7 文献标识码 ：A 聚酰亚胺作为一种特种工程材料 ，已广泛应用在航空、航天、微 电子 、液 晶、激光等领域，它具有耐高温 、 耐辐射、化学稳定性好及优 良的机械性能等特性 。氟碳膜具有优 良的自润滑性 、低介 电性 、耐腐蚀性 、疏水疏 油等性质而得到研究人员的普遍重视_1吧]。利用射频磁控溅射法可以将 2者的优点有机的结合起来。磁控 溅射法是一种简单 、易行的镀膜方式 ，近年来得到越来越广泛的应用 。但大多数研究者以小分子和半导体作 为基底，在高分子基底上溅射成膜的研究鲜有报道。从 2O世纪 9O年代中期开始 ，本实验室开始以高分子为 基底镀高分子功能膜，并取得了一些成绩[3]，该项研究具有较广泛的应用前景 。 本文是以聚酰亚胺为基底 ，利用射频磁控溅射法制备纳米氟碳膜 ，并对其形貌、结构及其应用性能作了 初步探讨 。 l 实验部分 1．1 实验材料 聚酰亚胺 (PI)薄膜：厚度 80 m (溧阳华晶电子材料有限公司)。 聚四氟乙烯 (PTFE)板：厚度 1mm (北京塑料一厂)。 丙酮 ：分析纯级 (青岛海洋化工厂)。 去离子水 。 氩气 ：作为载气 。 1．2 实验装置和仪器 本实验所用设备是在山东省重点实验室——纤维差别化工程实验室资助下 ，由研究人员 自行研究开发 的多功能表面改性设备 ，频率 13．56MHz。 扫描电镜 ：青 岛大学 JEOL出品的JSM 一840型，工作 电压 15KeY，分辨率为 4nm。观察前先用 IEO一4型离子溅射仪在样品上镀一层金膜便于观察 。 原子力显微镜：清华大学物理系 NanoscopeIliaScanningProbeMicroscope(DigitalInstrument．Inc． 出品)。 透射 电镜：青岛大学JEOL出品的JEM一1200型。 收稿 日期：2003—09—24 作者简介：张浴晖(1972一)，女 ，东华大学在读博士，现主要从事高聚物表面改性及其表征方面的研究。 维普资讯 64 青 岛 大 学 学 报 第 18卷 X一射线光电子能谱 ：北京师范大学光电子能谱室 VGESCAIABMK1I型光电子能谱仪，采用 AlIa为 x射线源，工作电压 250V，真空度为 1o Pa。 静态接触角测定仪 ：承德试验机厂生产的JY一82型静态接触角测定仪 ，试验条件为温度 2O℃，湿度 25 。 1．3 实验条件 不同的溅射条件见表 1所示。 表 1 溅射条件表 样品编号 t／mAn p／Pa P／w 样 品编号 t／mi