亚铁氰化钾掺杂聚中性红膜修电极的电分析特性的研究.pdfVIP

电分析化学进展·1999 亚铁氰化钾掺杂聚中·眭红膜修饰电极的 电分析特性研究 孙元喜 (湖南常德师范学院化学系415000) 对聚中性红膜修饰电极的研究近年来取得了良好的成果o“，该电极具有良好的稳定性 和导电性，对儿茶酚类物质具有较好的’电催化作用，分析应用广泛。在聚合物膜中进行掺杂，使 聚合物膜修饰电极的性能发生改变，从而更加扩大了高分子聚合物膜修饰电极这一领域的应 用。这类研究工作时有报道““。在前述研究的基础上，作者在电聚合中性红时掺人亚铁氰化 钾．制成了亚铁氰化钾掺杂聚中性红膜修饰电极(简称PNRFe)，并对该电极的电分析化学特 还可以提高一个数量级。该方法具有线性范围宽、稳定性高和重现性好等特点，可以方便地用 于样品中Fe(CN)：一及Fe3+的分析． PNRFe的制备按文献[11方法处理好基 体玻碳电极。将预处理好的玻碳电极移人到含 O．025rn01．I。_1 K2HPO．一KH2PO‘(pH=6)+ O．5rrloI．L叫NaNO，+2．O×10一m01．L叫NR+ z．0×10“m01．L叫K‘Fe(cN)5体系的电解池 中，接通三电极系统，在一1．4～1．8V电位下， 以60mV．s。的扫描速率，循环扫描聚台约 30min，即可得到稳定的掺杂Fe(CN)：一的聚 中性红膜，膜厚度由循环扫描的周数来控制。 在上述条件下制备的PNRFe呈现兰紫色，性 能十分稳定且重现性好。将此修饰电极浸入到 pH6～7的磷酸盐缓冲溶液中，至少可用一个 月以上其性能无明显变化。 Fe(CN)：一在PNRFe上的cv特性如 图1所示，PNRFe对Fe(CN)：一的氧化还原具 图1 Fe上的铺环伏安田特性体 n(cN)：在PNR 有一定的电催化作用，氧化还原峰电位分别为 系：O．2TnoI-L。1 E佴一0．214V．E，一0．157V。在低扫描速率时 4．0×10‘m01．I。1 KIFe(CN)‘ (口≤60mV．s“)，阴、阳极峰峰电位差约为 1(由内至外) 扫描速率：10、20、40、60、80、100mV．8 57mV，且i，^，=1，显然是一个单电子反应的 扫描电位范围：一O．3～O．6V 可逆氧化还原波，对应的氧化还原反应为： Fe(cN)：一；—兰Fe(CN)i一+e ·280· 电分析化学进展·1999 氧化峰电位与扫描速率几乎无关．在高扫描速率下o100mV．s。)，阴极峰电位随扫描速率 的加快而负移，且△E。。。u(7—0．999)。 1 Fe(cN)：一在PNRFe上催化峰电流的特性 1t催化峰电流与扫描速率的关系Fe(CN)：一在PNRFe表面被催化氧化还原时，其峰电 流与扫描速率相关(图1)。在低扫描速率下(v一50mV．s1)．峰电流与扫描速率成正比，即：j。 RFe表面被吸附，这与循环伏安法事实相吻合。 2．催化峰电流与Fe(CN)：一浓度的关系随着Fe(CN)：一浓度的增加，氧化还原峰电流 ’ 还原峰电流与浓度呈良好的线性关系。线性方程和线性相关系数分别为：