原子力显微镜(AFM).pptVIP

* 原子力顯微鏡 (Atomic force microscope, AFM) 掃描探針顯微技術(Scanning probe microscopy：SPM)係指具有『掃描機制與動作』及『微細探針機制』的顯微技術；而原子力顯微鏡(1986年誕生)為掃描探針顯微技術(SPM)的代表儀器，其在科學上的應用已非侷限於奈米尺度表面影像的量測，更廣為應用於探索奈米尺度下，微觀的物性(光、力、電、磁)量測，對奈米科技有直接的助益。AFM是由Binnig等人於1986年所發明的，具有原子級解像能力，可應用於多種材料表面檢測，並能在真空、氣體或液體環境中操作。AFM之探針一般由成份為Si或Si3N4懸臂樑及針尖所組成，針尖尖端直徑介於20至100 nm之間。 主要原理係藉由針尖與試片間的原子作用力，使懸臂樑產生微細位移，以測得表面結構形狀，其中最常用的距離控制方式為光束偏折技術。AFM操作模式可區分為接觸式(Contact)、非接觸式(Non-contact)及間歇接觸式(或稱為輕敲式，Intermittent contact or tapping)三大類，不過若要獲得真正原子解析度，必須以非接觸式的操作模式在真空環境下方能得到。目前原子力顯微鏡(AFM)的應用範圍十分廣泛，包括表面形貌量測、粗糙度分析及生醫樣品檢測等。 原子力顯微鏡(AFM)屬於掃描探針顯微技術(SPM)的一支，此類顯微技術都是利用特製的微小探針，來偵測探針與樣品表面之間的某種交互作用，如穿隧電流、原子力、磁力、近場電磁波等等，然後使用一個具有三軸位移的壓電陶瓷掃描器，使探針在樣品表面做左右前後掃描(或樣品做掃描)，並利用此掃描器的垂直微調能力及迴饋電路，讓探針與樣品問的交互作用在掃描過程中維持固定，此時兩者距離在數至數百A°(10-10m)之間，而只要記錄掃描面上每點的垂直微調距離，我們便能得到樣品表面的等交互作用圖像，這些資料便可用來推導出樣品表面特性。圖1是原子力顯微鏡(AFM)的結構示意圖。 AFM的主要結構可分為探針、偏移量偵測器、掃描器、迴饋電路及電腦控制系統五大部分，最常見的機構如圖1所示。距離控制方式為光束偏折技術，光係由二極體雷射產生出來後，聚焦在鍍有金屬薄膜的探針尖端背面，然後光束被反射至四象限光電二極體，在經過放大電路轉成電壓訊號後，垂直部份的兩個電壓訊號相減得到差分訊號，當電腦控制X、y軸驅動器使樣品掃描時，探針會上下偏移，差分訊號也跟著改變，因此迴饋電路便控制z軸驅動器調整探針與樣品距離，此距離微調或其他訊號送入電腦中，記錄成為X、Y的函數，便是AFM影像。 圖1 原子力顯微鏡(AFM)的結構示意圖 AFM的探針是由針尖附在懸臂樑前端所組成，當探針尖端與樣品表面接觸時，由於懸臂樑的彈性係數與原子間的作用力常數相當，因此針尖原子與樣品表面原子的作用力便會使探針在垂直方向移動，簡單的說就是樣品表面的高低起伏使探針作上下偏移，而藉著調整探針與樣品距離，便可在掃描過程中維持固定的原子力，此垂直微調距離，或簡稱為高度，便可當成二維函數儲存起來，也就是掃描區域的等原子力圖像，這通常對應於樣品的表面地形，一般稱為高度影像。 AFM的操作模式可大略分為以下三種：(1)接觸式：在接觸式操作下，探針與樣品問的作用力是原子間的排斥力，這是最早被發展出來的操作模式，由於排斥力對距離非常敏感，所以接觸式AFM較容易得到原子解析度。在一般的接觸式量測中，探針與樣品問的作用力很小，約為10-6至10-10N (Newton)，但由於接觸面積極小，因此過大的作用力仍會損壞樣品表面，但較大的的作用力通常可得到較佳的解析度。因此選擇適當的的作用力，接觸式的操作模式是十分重要的。(2)非接觸式：為了解決接觸式AFM可能損壞樣品的缺點，便有非接觸式AFM發展出來，這是利用原子間的長距離吸引力『凡德瓦爾力』來運作。凡德瓦爾力對距離的變化非常小，因此必須使用調變技術來增強訊號對雜訊比，便能得到等作用力圖像，這也就是樣品的高度影像。一般非接觸式AFM只有約50nm(10-9m)的解析度，不過在真空環境下操作，其解析度可達原子級的解析度，是AFM中解析度最佳的操作模式。(3)輕敲式：第三種輕敲式AFM則是將非接觸式加以改良，其原理係將探針與樣品距離加近，然後增大振幅，使探針在振盪至波谷時接觸樣品，由於樣品的表面高低起伏，使得振幅改變，再利用類似非接觸式的迴饋控制方式，便能取得高度影像。 *