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不同取向金刚石薄膜的红外椭圆偏振光谱特性研究.pdf
第25卷第2期 红外与毫米波学报 V01．25．No．2
2006年4月 J．I妇dMillim。Waves April，2006
文章编号：1001—9014(2006)02—0086—04
不同取向金刚石薄膜的红外椭圆偏振光谱特性研究
苏青峰， 夏义本， 王林军， 刘健敏， 史伟民
(上海大学材料科学与工程学院电子信息材料系，上海200072)
摘要：采用红外椭圆偏振光谱仪对HFCVD方法所制备的不同取向金刚石薄膜的光学参数进行了测量．结果表明
取向金刚石膜的折射率和消光系数几乎不随波长的改变而变化，折射率为2．391，消光系数在10。5范围内；对于
(111)取向金刚石膜，其折射率和消光系数随波长的改变有微小变化，折射率和消光系数都低于(001)取向膜．通过
计算拟合得到(001)取向金刚石膜的介电常数为5．83，优于(111)取向膜．
关键词：cVD金刚石膜；红外椭圆偏振光谱；折射率；消光系数
中图分类号：0433．4；TN213文献标识码：A
ONINFRARED
STUDIES SPECTRoSCoPIC
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SU XIA UU SHIWei-Min
Jian—Min，
Qing—Feng， Yi—Ben，WANG“n—Jun，
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(Sch001 Scienceand
En舀neering，ShanghaiUniversity，Shanghai200072，China)
ofdi归ferent films hotfil锄ent
odented击amond0btained chemical
Abstract：0pticalpropenies by vapordeposition(HF—
measured infhred inthe of meas—
CVD)wereby range
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