制备工艺条件对薄膜微结构的影响.pdfVIP

第33卷第5期 中 国 激 光 V01．33。No．5 2006年5月 CHINESEOURNALOFLASERS May，2006 J 文章编号：0258—7025(2006)05一0673一06 制备工艺条件对薄膜微结构的影响 田光磊1’2，申雁鸣1’2，沈健h2，邵建达1，范正修1 (1中国科学院上海光学精密机械研究所，上海201800；2中国科学院研究生院，北京100039) 样品进行了不同温度下的退火处理，对所有的样品进行x射线衍射(xRD)测试，以获得不同条件下得到的薄膜的 晶相及晶粒尺寸等的微结构参数。实验结果表明，薄膜的晶相结构以及晶粒尺寸强烈地依赖于沉积过程的各种技 术参数，如衬底的种类、沉积温度、沉积方法和退火温度。利用薄膜表面扩散以及薄膜成核长大热力学原理解释了 不同技术条件下的晶相结构和晶粒尺寸不同的原因。 关键词薄膜；x射线衍射；晶相结构；迁移率；扩散激活能 中图分类号0484．4 文献标识码A Influenceof Conditionsof Processon Technological Deposition MicrostructureofThinFilms TIAN Jianl…，SHAO Guang—leil”，SHENYan—min91”，SHEN Jian—dal，FANZheng—xiul J行5矗￡“￡P n竹dFi竹8Mgf^Ⅱ咒ic5，TheC^i咒esP S矗n恕g^口i o，0户￡ics Acade，ny ／1 D，5cig咒ce5，S^n挖g^乜i201800，C^i扎口、 ＼ 2 1 ／ Grnd“nf已Sc^oo￡o，￡^gC^i咒已5已Acnde，挖yo，Sfig卵fP5，BPiJj挖gO0039，(冼i咒口 AbstractThinfilmsof and were onseveralkindsofsubstratessuchasfused Zr02，Hf02Ti02 deposited silica， YAG，K9and filmswere electron I，iNb03；Hf02 assisted preparedby beam(EB)evaporation，iondeposition dualionbeam (IAD)and someofthemwereannealedatdifferent sputtering(DIBS)；then temperatures．X—ray diffraction(XRD)wasto the andthesizeof ofthesethin the appliedgain crystallinephase crystalgrain f订ms，and resultsrevealedthattheir structure onthe conditionsofthe