微纳米复合金刚石薄膜的制备与性能研究.pdfVIP

No．2 第41卷第02期 材料保护 V01．41 2008年02月 MaterialsProtection Feb．2008 微．纳米复合金刚石薄膜的制备与性能研究 柴士磊，史新伟，周秋霞，靳慧智，姚宁。王新昌，张兵临 (郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室，河南郑州450052) [摘要] 微米金刚石薄膜，然后沉积纳米金刚石薄膜，制备了微一纳米复合金刚石薄膜。利用扫描电镜(SEM)观察薄膜 的表面形貌及界面状态，利用拉曼光谱及X射线衍射对薄膜微结构进行分析并采用压痕法检测了膜基间的结 合力并观察了压痕的状态。结果表明，该薄膜下层颗粒粗大，是微米级的金刚石，上层颗粒细小，是纳米级的 金刚石，薄膜表面平整光滑；薄膜的附着力与纳米金刚石沉积时间的长短有关，当沉积时间为2h时，薄膜与 衬底的结合力最好。 [关键词]MPCVD；微．纳米复合金剐石薄膜；附着力；界面 [中图分类号】TQl53．1[文献标识码]A min，整 O前言 的溅射沉积时间为20min，铝层15rain，钼层10 个溅射过程中，样品架不停旋转以使膜层均匀pJ。溅 随着光学玻璃抛光工艺的发展，对抛光材料的选 射结束后用颗粒大小为250nm的金刚石丙酮混合溶 取有了新的要求，不但要求其表面平滑、硬度适宜，而 液超声处理样品10min，最后用去离子水超声处理 且要求其成本低廉、使用率较高。纳米金刚石薄膜具 5mino 有高硬度、高耐磨性、低摩擦系数等优点，因而具备良 1．2薄膜的制备及性能测试 好的耐磨削性能。复合纳米金刚石薄膜的制备，是在 微米金刚石薄膜的基础上再沉积一层纳米金刚石薄 微．纳米复合金刚石薄膜的制备采用微波等离子 膜，这种复合薄膜具备微米金刚石薄膜附着力高和纳 体化学气相沉积设备，首先制备微米金刚石薄膜，微米 米金刚石薄膜表面平整、摩擦系数小等优点…，既能满 金刚石薄膜沉积结束后，通人Ar气，制备纳米金刚石 足其作为抛光材料的新要求，又可以提高抛光的效率， 薄膜，具体工艺参数见表l。 改善抛光质量，加之金刚石的高耐磨性，可以大大降低 表1制备微·纳米复合金刚石薄膜的工艺参数 抛光成本，因而纳米复合金刚石薄膜具有很好的研究 价值和应用前景口o。 1试验 1．1预处理 选用10mm×10mm×200 p．m的纯铜片作基体， 首先对其进行表面预处理，具体流程如下：抛光一丙酮 溶液中超声清洗30 min_去离子水清洗一lO％稀硫酸 中浸泡12h_去离子水清洗_过渡层镀膜处理。过渡 薄膜的微结构分别使用x射线衍射及拉曼衍射进 层的制备用C-S磁控溅射仪，先后溅射三种金属钛、 铝、钼，具体流程如下：溅射电流lA，温度300℃，钛层射电子扫描电镜(SEM)进行观察，薄膜压痕试验使用 N。 洛氏硬度仪，载荷为15 [收稿日期]2007—10—20 为了比较复