陶瓷基板TO涂层光催化降解含氯烷烃溶液研究i2.pdfVIP

2007年 1月 广西轻工业 第 1期 GUANGXIJOURNALOFLIGHT INDUSTRY (总第98期 ) 陶瓷基板TiO2涂层光催化降解含氯烷烃溶液的研究 陈耀存 ，杜湘琴 ，张静萍 ，李海洋 (1．深圳龙华自来水有限公司，广东 深圳 518000；2．深圳大学化学与化工学院，广东 深圳 518060) 摘【 要】将二氧化硅溶肢与自静】的二氧化钛溶肢按照一定的质量比混合，搅拌均匀后喷涤刘洁净的陶瓷基板表上，在 500~CT热处理30rain得到了透明二氧化钛涂层。采用XtLD和AFM分析了二氧化钛涂层的晶相结构和表面彤貌。二氧化钛涂层 光催化降解舍氯自来水研究结果表明：二氧化钛涂层中掺杂20％(Ts82)的二氧化硅，其降解效果非常理想。 【关键词】二氧化钛；舍氯烷烃溶液；光催化；电导 【中图分类号】TU5 【文献标识码】A 【文章编号】1003—2673(2007)01—0045—02 1引言 3．1=氧化钛晶相与裹面形貌 半导体光催化技术在环境保护和太阳能利用上有着良好 的应用前景，已成为国内外研究的热点之一1【．3l。TiO：作为光催 化材料具有光催化活性高、稳定性好、价廉、无毒等优点，应用 最为广泛，已开始在空气净化，污水处理，自清洁陶瓷和抗雾玻 璃制备等方面得到应用4[-毋。光催化功能陶瓷具有灭菌、降解有 孽}吾} 伽季}|}瑚瑚啪伽∞。 机污染物和保持陶瓷表面洁净的功能。现在 ，在处理含氯的有 机物时，采用的方法中大多采用催化氧化反应，是一种具有广 困I试样紫外光照示意图 阔应用前景的绿色环境治理技术。 目前。自来水的供应过程中采用了含氯的物质进行消毒， 以保持水进入千家万户时没有细菌。然而这种加氯消毒的方法 莒 产生了新的有机卤化物，成分是三氯甲烷，及少量的一氯甲烷、 善 至‘ 一 溴二氯甲烷、二溴一氯甲烷、溴仿。检测的结果表明，加氯消 宅 毒的饮用水、自来水中的卤代烷含量高于水源水，长期引用超 标的水，会肝中毒，甚至癌变 。因此饮用水的安全健康的问题 得到了越来越多的关注，如何杀菌消毒，减少有机物的污染，减 20 3O 40 50 6o 70 80 少水中卤代烷的含量等都是人们所探讨的课题 为此本工作以 2Thota 二氧化钛涂层为光催化剂，在紫外光作用下，对光催化含氯有 图2二氧化钛涂层的xRD图谱 机物溶液作了相关研究 2实验部分 2．1试样的制备 按文献 制备了二氧化钛水溶胶和二氧化钛涂层。 2．2 二氧化钛薄膜的表征分析 采用X射线衍射仪(日本岛津)进行=氧化钛晶相分析，原 子力显微镜AFM(美国爱默森仪器公司)分析二氧化钛涂层表 面形貌。 |nml 2．3 光照倦化性能评价试验 图3二氧化钛涂屡的AFM 照片 配置一定浓度的含氯烷烃溶液置于50mL的烧杯中，将镀 图2为；On-氧化钛涂层掺杂二氧化硅的XRD图谱，可知 有二氧化钛涂层的陶瓷基板浸没。使用三盏20W紫外光管照 体系结晶度良好，涂层完全由锐钛矿型组成。由图3可知。二氧 射样品溶液进行光催化降解。含氯烷烃的光降解率用电导率仪