纳米薄膜脉冲激光沉积技术.pdfVIP

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2015-09-06 发布于安徽
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纳米薄膜脉冲激光沉积技术.pdf

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· · ＊李美成　　赵连城 (　　　150001　) 杨建平　　陈学康　　吴　敢 (　　　730000 　) 　　简要介绍了脉冲激光薄膜沉积(PLD)技术的物原、独具的特点,并且介绍了在PLD 基础上结合分子束外延(MBE)特点发展起来的激光分子束外延(L-MBE), 以及采用L-MBE 技术制备硅基纳米 PtSi 薄膜的结果。　脉冲激光沉积, 纳米薄膜,激光分子束外延(L-MBE), 红外探测器 Pulsed Laser Deposition of Nanometer Thin Films Li Meichen 　　Zhao Lianchen (　School of Materials Science and En ineerin , Harbin Institute of Technolo y　Harbin　15000 1　) Yan Jianpin 　　Chen Xuekan 　　Wu Gan (　Laboratory of Laser Molecular Beam Epitaxy, Lanzhou Institute of Physics　Lanzhou 　730000　) Abstract 　Pulsed laser deposition(PLD)is a new technique for the rowth of thin films.In this paper, physical principle and unique characteristics of PLD are introduced briefly.In addition, Laser-Molecular Beam Epitaxy (L-MBE) combinin the characteristics of PLD and MBE is presented.Test results of PtSi nanometer thin film based on silicon pre- pared by L-MBE are iven. Key words　Pulsed laser deposition, Nanometer thin film, Laser-molecular beam epitaxy (L-MBE), Infrared de- tector 1 　 , , 。, 。、、, 80 。“21 ,, ”。、、。 :2000-03-24;:2000-12-20 ＊:18.9.2 , 1973 , , 　2001 　4 — 1 — 。 ;τ;I ,, ;I 0 、、、 ;ρ;■H 。 (MOCVD)(MBE)。 (2) , , , 。, , , , 。 , ()(), ,, , , [1,2] ,, , (、、 [6] 。, [3] [1] 2 2 ) , 1 J/cm ～100 J/cm , [4] 。