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- 2015-09-06 发布于安徽
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2000 年 1 月 中国工程科学 Jan2000
第 2 卷第 1 期 Engineering Science Vol 2 No 1
专 题 报 告
硅及硅基半导体材料中杂质缺陷和表面的研究
屠海令
(北京有色金属研究总院 , 北京 100088)
随着超大规模集成电路设计线宽向深亚微米级 ( 0 5 μ ) ( μ )
[摘要] m 和亚四分之一微米级 0 25 m 发
展 , 对半导体硅片及其它硅基材料的质量要求越来越高 , 研究上述材料中各种杂质的行为 , 控制缺陷类型及数
量 , 提高晶体完整性 ,
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