浅谈真空灭弧室的制造工艺及发展方向.pdfVIP

产业 观点评论 Opinon 浅谈真空灭弧室的制造工艺及发展方向 随着真空技术的不断发展，真空灭弧室的制造技术也得到了很大的提高，我国真空灭弧室的设计理论、制 造工艺和质量水平都有了质的飞跃。真空灭弧室制造工艺的发展，主要表现在四个方面：触头材料、电弧控 制系统、灭弧室结构及灭弧室制造工艺，本文主要介绍真空灭弧室的制造工艺特点以及发展方向。 袁战荣 孟庆喜 王军志/平高集团有限公司电控公司 真空灭弧室是真空断路器的核心部件，真空断 流可达3 150 A、分断能力可达到40 kA；在消化吸收 路器的通断操作是通过位于真空灭弧室外的 引进技术的基础上开发的第三代真空灭弧室，其特点 操动机构使真空灭弧室内的一对对置触头闭合或断开来 是屏蔽筒内置，φ88～125 mm陶瓷绝缘外壳，电极 完成的。真空灭弧室的基本结构如图1所示。 结构为杯状纵磁，CuCr50触头材料，分断能力达到 5 40 kA，额定电流可达3 150 A。这期间也研制了一 些线圈式纵磁场电极的灭弧室，主要提高了分断能 6 力，但仍以杯状纵磁为主；以一次封排技术为代表的 第四代真空灭弧室的整体质量有了很大的提高，此时 4 各种成熟技术的综合应用开发出大量的12 kV、 24 kV、 3 7 40.5 kV，低压0.38～1.14 kV各种参数的真空灭弧室 批量供应市场，产品覆盖了整个中压领域。小型化、有 外绝缘保护的真空灭弧室可称为第五代产品，目前已 开始批量供应市场。 2 1 1 真空灭弧室制造工艺 随着生产技术及工艺水平的不断提高，真空灭弧室 的生产方式发生了巨大的变化，灭弧室的体积变得越来 8 越小，性能越来越可靠，结构也变得越来越简单。 1—动端盖板 —波纹管2 —触头3 —主屏蔽罩4 —静端盖板5 1.1排气台工艺 6—静导电杆 —绝缘外壳7 —动导电杆8 将真空灭弧室的零件通过钎焊及氩弧焊等工艺制成 图1 真空灭弧室的基本结构 为待排气的整管，再连接到排气台进行抽真空及烘烤除 在我国，真空灭弧室的发展已经经历了五代。国 气，最后进行冷夹封口的过程。此工艺过程复杂，路线