铜基红外线吸收膜层常用制备技术的研究现状及发展方向.pdfVIP

42 铜 基 红 外 线 吸 收膜 层 常用 制 备 技 术 的研 究现 状 及 发 展 方 向 铜基红外线吸收膜层常用制备技术的 研究现状及发展方向 李 雪，裴和中，张国亮。黄 攀 (昆明理工大学材料科学与工程学院，云南 昆明 650093) [摘 要] 红外线吸收膜层多采用基体黑化处理获得。在铜基黑化膜层的制备工艺中，常温黑化 已基本取代 了传统的高温碱煮黑化。综述了铜基黑化的发展现状，重点介绍了常温黑化 中的硒铜系发黑、氧化发黑及表面 涂覆涂料发黑工艺，并对黑化工艺的发展前景进行 了展望。 [关键词] 红外线吸收膜层 ；铜基；常温黑化；硒铜系发黑；氧化发黑；表面涂覆涂料发黑 [中图分类号]TG177 [文献标识码]A [文章编号]1001—1560(2013)05—0042—03 O 前 言 为3Cu+H，seo +4H =2Cu +CuSe(黑色) + 3H20。 铜基红外线吸收膜具有 良好 的吸收红外线特性 ， (2)发黑液的基本组成 硒铜系常温发黑液基本 可广泛应用于航空、电子、仪表、军工以及红外线探测 组成包括成膜剂 、氧化剂、表面活性剂及辅助剂 。 等领域。常用的制备技术是发黑处理，发黑工艺可分 成膜剂是二价铜黑色薄膜的主要成分 ，包括 CuSO ， 为高温碱煮和常温发黑。后者能耗低、生产时间短、 SeO：或H：SeO 。CuSO 含量不能过高也不能过低 ：含 工作效率高、工作环境好，污染程度低，且具有 良好的 量过低时，反应速度较慢，在基体上覆盖的铜层太薄， 红外线吸收特性，极具市场潜力，是 目前应用较多的 甚至有些地方覆盖不上 ，难 以进行进一步的氧化还原 工艺。常用的常温发黑体系有硒铜系和铜硫系等发 和沉积 ；含量过高时，膜层 出现大量触摸即掉的挂灰 。 黑体系、氧化发黑及表面涂覆黑化 。常温黑色膜层的 HSeO是主要的成膜物质、氧化剂和着色剂，其含量 In 制备在近十年来取得了长远的发展，国内外相继研究 0 也至关重要：含量过低时，发黑速度慢，基体上覆盖的 Z 出了黑化产品并在实际中得以应用 。 目前，与铜常 、c) 铜层不能被充分氧化且生成的膜太薄；含量过高时， 寸 温发黑相关的报道较少，且大多数仅停留在保证其颜 一 0 发黑速度过快，结晶粗大，生成的CuSe膜层虽黑但疏 色的黑度 的阶段，相关的红外线吸收特性的介绍更 松 。所 以，要得到致密、均匀 的膜层 ，必须控制好 少。本工作介绍 了铜发黑工艺现状 ，展望了铜黑化的 H：SeO，的含量 j。表面活性剂 的作用是改善发黑液 发展前景及其在红外吸收上的应用前景。