掩模版升降定位存取机构.pdfVIP

光刻与刻蚀 电 子 工 业 专 用 设 备 - 掩模版升降定位存取机构 马喜宝，董同社 (上海微高精密机械工程有 限公司，上海 201203) 摘 要 ：针对 90nm 及 以下线宽光刻设备对掩模版升 降定位存取机构功能和性能的需求．确定 了掩模版升降定位存取机构的基本构架 ，并对机构进行 了设计。 关键词 ：掩模版；升降机构；定位存取机构 ；锁定；解锁 中图分类号 ：TN305 文献标识码 ：B 文章编号 ：1004—4507(2011)05—0010—04 DesignofReticleElevatorandHolder M A Xibao，DONG Tongshe Abstract：Formeeting thefuntion andperformancerequirementstoreticleelevatorandholderof 90nmandsub-90nmnodelithographicprojectionapparauts，frameworkanddetaileddesignofreticle elevatorandholderisstudyed． Keywords：Reticle(Mask)；Reticleelevator；Reticleholder；Lock；Unlock 掩模版升降定位存取机构，是光刻设备的一 降和定位 ，掩模版的存放、洁净等需求，掩模版定 个关键模块 ，随着光刻设备 向着短波长、大片径、 位存取机构需满足表 1中的功能需求和性能需求。 高分辨率、大焦深、高套刻精度 的方 向发展，对掩 模版的升降速度、定位精度、存放环境、取放版的 2 基本机构 效率和安全性等提出了更加严格的要求，既要满 足 SEMI标准掩模版盒的接 口要求，同时又要适 掩模版定位存取主要有两部分组成：掩模版 应具有不同尺寸规格(5英寸、6英寸)和单版或者 盒锁定和解锁机构 ；掩模版升 降定位机构 ，如 图 1 6版的掩模版盒的需求，以增加互换性和维修性， 所示 。 降低成本，提高效率。 2．1锁定和解锁机构 1 功能需求和性能需求 锁定和解锁指的是把存放掩模版的版盒放置 在锁定和解锁机构 SEMI接 口上并 由定化销定 为满足掩模版盒的锁定和解锁，掩模版的升 位，两对锁销 向两边移动，将掩模版盒的有机玻璃 收稿 日期 ：2011—04一l9 罩 电 子 工 业 毫 用 设 备 光刻与刻蚀 表 1 掩模版定位存取机构需满足 的功能和性能 序号 需求类别 需求名称 描述 1 锁定版盒功能 使掩模版盒的有机玻璃光罩盒和掩模版架底托分 离 ：同时将 其锁 守存 SEMI棒 口同守法 兰 口上 。 2 功能需求 解锁版盒功能 使有机玻璃光罩盒和固定法兰 口脱离，同时将其 和掩模版架底托锁紧 3 掩模版盒垂 向运动功能 掩模版盒在垂直方向上下运动 4 掩模版盒 z向移动速度要求 99 mm／s 5 掩模版盒 Z向移动行程要求