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电化学发光分析的新进展 章竹君 (陕西师范大学化学系，西安，710062) 前 言 电化学发光(E融栅amniI衄lin％嘟啪)又称电致化学发光(翻∞呦∞ted Qmm哪in％∞n∞)，两者均简称ECL．从广义的意义来讲，电化学发光是电极反应产物 之间或者电极产物与体系中某组分进行化学反应所产生的～种光辐射． 早在1929年m“呵就发现丁鲁米诺洳miⅡ01)的电化学发光现象l”，但直到80年代才宾 正应用于分析化学。多种电化学技术，如线性扫描、正矩形和方波扫描、常规脉冲、差分 脉冲、多电位价跃脉冲、计时电流、电位溶出、化学溶出、控制电位电解、恒电流电解和 化学修饰电极等，及包括单重态激发和三重态激发在内的多种化学发光体系，如鲁米诺体 系、多环芳烃体系、钌一联吡啶体系、丫啶酯体系、光泽精体系等均有较大的发展，并已 用于多种无机物、有机物、生物大分子和生物活性物质的测定及多种抗原、抗体和半抗原 的免疫分析等．电化学发光的机理研究，电化学发光分析的仪器、分析体系及其应用．近年 来国内外均有评述口司。 本文主要介绍近年来由我们首次提出的两类新的电化学发光分析新方法和新技术。即电 位溶出化学发光分析(日∞扛。涮cai s面埘ngch翩置ilmlin鼯∞麟蛐alysis)和电生试剂化 学发光分析((：h蛐dumi∞scl∞ce锄＆ysis耐血出嘣睨蜘∞啦d黜键咖|扭1． 电位溶出化学发光分析 化学发光分析的最大特点是有报高的灵敏度(1口”一10’越moIn)、很宽的线性范围(3．6数 量级)和相对简单廉价的仪器：最大的弱点则是选择性较差。溶出伏安法是一种将富集和 测定结合在一起的电化学分析方法，它能将金属离子从大体积的试液中富集在微小的电极 上，使在溶出的扩散层中被测物质的浓度很大，从而具较高的灵敏度；同时由于可以通过 控制电位将被测离子选择性地电解富集在电极表面，通过介体交换，捧除基体及干扰组分： 还可控制各种条件(溶出电位和化学溶出等)使被测离子选择性的溶出，从而提高方法的 选择性。另外，某些可能同待测离子同时溶出的金属离子，又 可能因为缺乏相似的化学发光反应而避免了干扰。我们将这两种技术结合在—起，提出了 电位溶出化学发光分析新方法，其仪器如图l所示，仪器的核心部分为电化学发光流动池 (图lb)，它以金电极为工作电极，银丝为参比电极，不锈钢管为对极．试样或标准铜溶 液由蠕动泵输送进入池中，在-0．4V电位下富集1．3血、。继用冲洗液冲洗约l疵，然后通 6 入L^娅酬-KCN发光液，以200m曲的速度，从-0 4．棚．2v进行电位溶出扫描，Cu+2将与 发光液反应，在电极表面扩散层内产生化学发光。整个电化学发光反应为： 在金电极上(富集过程) Cp+2e—cu(E-．o．4v’vsAg^Aga) 在金电极上(富集过程) Cu“+2c—Cu但；_0．4v，嘴Ag，AgCl) 在金电极上(溶出过程)CⅡ．2e—Cu2+ u Cu2++Luminol+CN’一Produc括+h 在扩散层内(发光过程) (425舳) 以10-200mvS．I速度进行电位溶出扫描，其化学发光强度与电位溶出扫描速度成正比， 当扫描速度一定时，则与试样中铜的浓度成正比，从Eh培te珏smol∞hovb公式可以计算出