甲烷浓度对等离子喷射金刚石厚膜生长稳定性的影响.pdfVIP

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甲烷浓度对等离子喷射金刚石厚膜生长稳定性的影响.pdf

第41卷 第10期 金属学跋 Vbl.41No.10 ACTAMETALLURGICASINICAOct.2005 2005年10月1091--1094页 PP.1091—1094 甲烷浓度对等离子喷射金刚石厚膜生长稳定性的影响 陈荣发-,。) 左敦稳·) 李多生-) 相炳坤·) 赵礼刚-) 王珉,) 1)南京航空航天大学机电学院,南京210016 2)扬州大学机械工程学院,扬州225009 摘 要 采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的无裂纹自支撑金刚石厚膜.实验中观察到在金刚石厚膜生 长过程中出现了形貌不稳定性,其程度随甲烷浓度的不同而变化.从理论和实验两个方面对这种不稳定性进行了讨论,认为直流电 弧等离子体的高温造成碳源高饱和度是生长不稳定性的根本原因.实验结果表明,在沉积金刚石厚膜时,为了稳定地获得高质量的 厚膜,甲烷浓度不宜过高. 关键词 金刚石厚膜,生长稳定性,甲烷浓度,直流等离子喷射,化学汽相沉积 中图法分类号TGl74.442 文献标识码A 文章编号0412—1961(2005)10—1091一04 EFFECTSoFMETHANECoNCENTRj气TIoNoN GRoWTHSTABILITYoFTHICKDIAMoND FILMPREPAREDBYDCARCPLASMAJET CHEN 0 Minl) Rongfal,2),Z∞Dunwen¨,己,Duosheng¨,删ⅣGBingkun¨,ZHALigang¨,黝ⅣG ofMechanicalandElectrical ofAeronauticsand 1)Department Engineering,NanjingUniversity 210016 of 225009 Mechanical 2)Department Engineering,YangzhouUniversity,Yangzhou Correspondent:CHENRongfa.associate NQ.tionalNQIturalScienceFoundation Supportedby olChina(No form received revised2005-06-13 Manuscript2005-03-14,in ABSTRACTDiamondfilmwaferswithdifferentthicknesswere DCarc preparedbyhighpower ietCVDmethod.Thediamondfilm Wasunstableatsomemethaneconcentrationsand plasma growth the onthe and methaneconcentration.Theoretical instabilitydegreedepends analysisexperimental showthatthe is attributedtothe saturationofcarbon investigation

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