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甲烷浓度对等离子喷射金刚石厚膜生长稳定性的影响.pdf
第41卷 第10期 金属学跋 Vbl.41No.10
ACTAMETALLURGICASINICAOct.2005
2005年10月1091--1094页 PP.1091—1094
甲烷浓度对等离子喷射金刚石厚膜生长稳定性的影响
陈荣发-,。) 左敦稳·) 李多生-) 相炳坤·) 赵礼刚-) 王珉,)
1)南京航空航天大学机电学院,南京210016
2)扬州大学机械工程学院,扬州225009
摘 要 采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的无裂纹自支撑金刚石厚膜.实验中观察到在金刚石厚膜生
长过程中出现了形貌不稳定性,其程度随甲烷浓度的不同而变化.从理论和实验两个方面对这种不稳定性进行了讨论,认为直流电
弧等离子体的高温造成碳源高饱和度是生长不稳定性的根本原因.实验结果表明,在沉积金刚石厚膜时,为了稳定地获得高质量的
厚膜,甲烷浓度不宜过高.
关键词 金刚石厚膜,生长稳定性,甲烷浓度,直流等离子喷射,化学汽相沉积
中图法分类号TGl74.442 文献标识码A 文章编号0412—1961(2005)10—1091一04
EFFECTSoFMETHANECoNCENTRj气TIoNoN
GRoWTHSTABILITYoFTHICKDIAMoND
FILMPREPAREDBYDCARCPLASMAJET
CHEN 0 Minl)
Rongfal,2),Z∞Dunwen¨,己,Duosheng¨,删ⅣGBingkun¨,ZHALigang¨,黝ⅣG
ofMechanicalandElectrical ofAeronauticsand
1)Department Engineering,NanjingUniversity
210016
of 225009
Mechanical
2)Department Engineering,YangzhouUniversity,Yangzhou
Correspondent:CHENRongfa.associate
NQ.tionalNQIturalScienceFoundation
Supportedby olChina(No
form
received revised2005-06-13
Manuscript2005-03-14,in
ABSTRACTDiamondfilmwaferswithdifferentthicknesswere DCarc
preparedbyhighpower
ietCVDmethod.Thediamondfilm Wasunstableatsomemethaneconcentrationsand
plasma growth
the onthe and
methaneconcentration.Theoretical
instabilitydegreedepends analysisexperimental
showthatthe is attributedtothe saturationofcarbon
investigation
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