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扫描电位沉积Bi—Pt合金及其电催化性能的研究
袁定胜‘，杨创涛，胡竟华
暨南大学化学系，广东广州510632
铋主要应用在低熔点合金和冶金添加剂，铋合金用在半导体元件上起致冷作用。金属铋既
具有共价键，又具有金属键特性，这种结构使铋具有一系列特殊的物理化学性能【lJ。近年研究
报导了金属铋及其合金有一些特殊的光学、磁学、电学性能[2-4]。铋铂合金具有良好的电催化
性能，可应用丁．催化电极和传感器15’6】。铋的盐在水溶液中很容易生成碱性铋盐，形成沉淀，
造成金属铋离子在溶液中显著下降，通常用盐酸或是高氯酸来抑制碱性铋盐的生成。如果用电
化学的方法来沉积铋，镀层受析氢影响严重，而且镀液不稳定。我们采用有机体系进行电沉积
铋铂合金膜，因无水可避免生成铋氧化物和析氢的影响，且镀液稳定。
-0．443．6棚．8-1．O-1．Z-1．4
potential，V(vsSCE) PotentialI v(w,sc-E)
图l沉积体系在铂电极上的循环伏安曲线 图2沉积体系在铜电极上的循环伏安曲线
ona Linar ona
Pt(O．03cm‘) sweepvoltammogramsCu(0．07cm。)
Fig．1Cyclicvoltammograms Fig．2
electrodeinthe L“
electrodeinthe 17．5349L—Bi(N03)3一1．3919
17．5348L～Bi(N03)3一1．3919L-’
L．1
H2PtCl66H20·20mL H2PtCl66H20-20mLL．‘N(CH2CH20H)3-DMSO
N(CH2CH20H)3-DMSO
s-l 1，：50mVs-’
system．：50mV system
圈3Pt-Bi合金膜的XRD图(o-PLe—Bi，▲-Ca)图4Pt-Bi合金膜的SEM图
XRD ofPt·Bi 4 SEM ofPt-Bi film
O—Bi，▲-Cu) alloy
Fig．3 spectrumalloyfiIm(O—PL Fig photograph
实验中采用试剂均为分析纯，在高纯N2气氛下，采用三电极体系进行电化学测试和电沉
XD．2
积。JSM．6330F场发射扫描电子显微镜用于观察合金膜的表面形貌。MSALX射线粉末
Lq L．‘H2PtCl6·6H20—20mL
衍射仪分析物相的构成。沉积液的组成为：17．5349Bi(N03)3一1．3919
L～N(CH2CH20H)3．DMSO。
依据图l和图2的循环伏安曲线，选取一0．8～．1．1V电势区间，应用循环扫描电位沉积法在
联系人简介：袁定胜，35岁．副教授，主要研究方向：材料rtl化学。
媾金资助：广东省自然科学基金资助课题，暨南大学引进优秀人才科研启动綦金
219
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