nc-SiSiO2多层膜的制备及蓝光发射.pdf

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 ’! !##% ， ， ， +EV ;’! =E ; NWO0V !##% （ ） ###.%!$#3 !##%3 ’! # 3 #$A$.# N*RN (2T/U*N /U=U*N !!##% *D07 ; (DXK ; /E8 ; !#$% $%’( 多层膜的制备及蓝光发射! 隋妍萍 马忠元 陈坤基 李 伟 徐 骏 黄信凡 （南京大学物理系，固体微结构物理国家重点实验室，南京 !##$% ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） !##! ’ !##! $ $ 在等离子体增强化学气相淀积（ ）系统中，采用 层淀积与原位等离子体氧化相结合的逐层生长的 ()*+, -./0 1 2 方法成功制备出 多层膜 （ ）；利用限制性结晶原理通过两步退火处理使 层晶化获得尺寸可控 -./0 1 23 /04 56 -./0 1 2 ! 的78./03 /04 56，并观察到室温下的蓝光发射；结合9-:-7 散射和剖面透射电子显微镜技术分析了78./03 /04 56 的 ! ! 结构特性；通过对晶化样品光致发光谱和紫外.可见光吸收谱的研究，探讨了蓝光发射的起源; 关键词：纳米硅多层膜，等离子体氧化，蓝光发射，热退火 ： )*++ %#= 中观察到室温下的蓝光发射（ ） /04! 56 !’7: ; C 引 言 ! C 实 验 ［］ $$# 年*-7D-: 在多孔硅中发现了由于量子 限制效应引起的室温可见光波段的光致发光（ ）， (6 -./0 1 23 /04! 多层膜是在()*+, 系统中制备的; 使得硅低维纳米结构的制备、发光机理及其在光电 由计算机控制质量流量计开关，使反应室内的反应 ［］ ! 子器件中应用的研究成为热点; 6E8FGEEH 等 在用 气体交替在 （ ）和 之间交换，从而使分解 /02 L NO 4