PVD制备TiAlSiN涂层的研究进展.pdf

· · 42 材料导报A：综述篇 PVD制备TiAISiN涂层的研究进展+ 彭笑1，朱丽慧1，VineetKumar2，刘一雄2 Kennametal 15650，USA) (1上海大学材料科学与工程学院，上海200072；2 Inc．，Latrobe，PA 摘要 概述了物理气相沉积(PⅧ)技术制备TiAlSiN涂层的研究现状及发展趋势，详细分析了Si元素的添 加及Si与Al元素的含量对TiAlSiN涂层的微观结构、力学性能、高温抗氧化性和热稳定性的影响。解决PVD制备 TiAlSiN涂层较低的膜基结合力和较大的残余应力等问题应是今后重点研究的方向。 关键词 物理气相沉积TiAlSiN涂层微观结构力学性能抗氧化性热稳定性 中图分类号：TB43 文献标识码：A Recent in TiAlSiN ProgressPhysicalVaporDepositedCoating PENG Xia01，ZHULihuil，VineetKumar2，LIU Yixion92 (1 SchoolofMaterialsScienceand 200072； University，Shanghai Engineering，Shanghai 2 Kennametal Inc．，Latrobe，PA15650，USA) AbstractTheresearchand of aresummarized． developmentvapor coating physicaldeposited(PVD)TiAlSiN TheeffectsofA1andSicontentonthemicrostructure，mechanicalresistanceat hightemperature properties，oxidation andthermal OfTiAlSiNareconcentratedon．Thefutureresearchshouldan onhowto stability coating put emphasis enhancetheadhesion andreducetheresidualstressofTiAlSiN strength coating． words re— Key physicalvapordeposition，TiAlSiNcoating，microstructure，mechanicalproperty，oxidation sistance，thermal