化学溶液沉积法制备Nd和ScAl( Sc,Al)共掺杂钛酸铋铁电薄膜的电性能研究.pdfVIP

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化学溶液沉积法制备Nd和ScAl( Sc,Al)共掺杂钛酸铋铁电薄膜的电性能研究.pdf

·61· 化学溶液沉积法制备Nd和Sc/AI/(Sc,AI)A掺杂钛酸铋铁电薄膜的电性能研究/胡增顺等 薄膜的电性能研究。 胡增顺h2,杨桦3,晋玉星1 开封475004) 摘要 8sTi2 掺杂的钛酸铋薄膜Bi¨5Nd0 AI)薄膜具有较高的剩余极化强度和介电常数。其漏电流密度低于BNTA[薄膜。另外。还讨论了相关的物理机制。 关键词 铁电薄膜共掺杂BNT(Sc,AI)薄膜化学溶液沉积法 中图分类号:TB34 文献标识码:A of Electrical Ndand BismuthTitanate Properties Sc/AI/{Sc,A1)Cosubstituted FilmsObtained ChemicalSolution by Deposition HU IN Hua3,J Zengshunl”,YANGYuxin91 (1 Public ResearchCemerofFunctional Computer University.Kaifeng475004;2 Material, Department,Kaifeng 475004;3Software 475004) KaifengUniversity,Kaifeng TechnologyDepartment,KaifengUniversity,Kaifeng AbstractAseriesofNdand bismuthtitanatefilmsof Sc/AI/(Se。A1)cosubstituted Bi.15Ndo.Ti2.94S龟*012 (BNTSc).Bis.15Ndo.BsTiz.94Ak%Ou(BNTAI)and prepared Oil at achemicalsolution seriesofcorn- Pt/Ti/SiOz/Si(100)substrates700℃by depositiontechnique。respectively.A and films structures,dielectric,ferroeleetriecurrent 0fthe werecarried parisonsincluding leakage propertiesprepared out.ItwasfoundthatBNT(Sc,AJ)filmexhibitsrernnarlt anddielectricconstant。butlower higher polarization leB.kage current thanthatofBNT~films.nlerelevant wereals

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