双靶反应磁控溅射共沉积AlN薄膜粘结性能研究.pdfVIP

　第 39卷 第 1期 　 　　 　　　　　　人 　工 　晶 　体 　学 　报　　　 　　　　　 Vol. 39　No. 1 　 20 10年 2 月 　　　　　　　　 JOURNAL OF SYN TH ET IC CRYSTAL S 　　　　　　　 February, 20 10 双靶反应磁控溅射共沉积 A l N 薄膜粘结性能研究 朱家俊 , 周灵平 ,刘新胜 , 彭 　坤 , 李德意, 李绍禄 (湖南大学材料科学与工程学院 ,长沙 4 10082) ( ) 摘要 :采用单 、双靶反应磁控溅射法分别在 45钢 、GCr15钢 、硅 100 和钼衬底上制备了 A lN 薄膜 。X射线衍射和电 子显微分析表明 ,双靶反应磁控溅射沉积的 A lN 薄膜具有高致密度和低残余应力 , 同时采用划痕法和压痕法等对 A lN 薄膜的粘结强度进行测试 , 结果表明:双靶反应磁控溅射共沉积 A lN 薄膜的粘结强度明显比单靶沉积的薄膜 高 ,划痕临界载荷提高 0. 5 ～2倍 。不同衬底上沉积的 A lN 薄膜粘结强度存在很大的差别 , 以钼衬底上沉积的薄膜 粘结强度最高 ,划痕法测得的临界载荷高达 64 N ; GCr15衬底上 A lN 薄膜摩擦试验表明 , A lN 薄膜能明显起到减磨 作用 。 关键词 : A lN 薄膜 ;反应磁控溅射 ;粘结强度 ;共沉积 中图分类号 : TB32 1 　 　 文献标识码 : A 　 　 文章编号 : 1000985X (2010) 0 1007705 Study on the A dhesion of A l N Th in F il m s Codeposited by D ua l Targets Reactive M agnetron Sputter ing ZHU J ia j un, ZHOU L ing p ing, L I U X in sheng, PEN G Kun, L I D ey i, L I S haolu ( College of M aterials Science and Engineering, Hunan Un iversity, Changsha 4 10082 , Ch ina) (R eceived 8 Ap ril 2009, accep ted 1 S ep tem ber 2009) A b stract:A lN film s were re sp ectively depo sited on 45 steel、GCr15 steel、Si ( 100) and Mo sub strate s by single target and dual targets reactive m agnetron spu ttering. The se film s were characterized and analyzed by Xray d iffraction (XRD ) and scann ing electron m icro scop y ( SEM ) . It wa s found