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助溶剂存在下制备丙烯酯无皂胶乳.pdfVIP

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助溶剂存在下制备丙烯酯无皂胶乳

维普资讯 第2期 高分子材料科学与工程 No.2 1993年3月 POLYMERICMATERLM~ SCIENCEAND ENG1NEERING Mar.1993 助溶剂存在下制备丙烯酯无皂胶乳 }{一 龇(j胡北大丈意再 ..3㈣0D62)7f;ff 摘 要 在甲基丙 々 甲酯(MMA)、丙蚌酸正丁酯(BA)及离子型共聚单体蚌丙磺酲钠(№As)组成的无 皂聚合体糸中,加入 CH~OH散助溶剂。增大主单体在水 中溶解度,减小 了聚电解质的浓度。本文分 . 别讨论 了 0H用量、NaAS浓度、引发荆 戒度及离子强度等 因素对乳胜拉平均直住 ( )、 浓度关键词助盏溶剂磊.离三子墨型共聚单体体..无无皂皂乳避液聚合,胶粒粒平均直直径径腋。胶粒黼表面面电电荷荷密密度度。。≯1u乙电‘UJ}i文予Uu 在无皂乳液聚合体系中加入离子型单件进行共聚,已成为制备无皂胶乳的主要途径Ll-。世 大多数离子型单体除参加共聚外,还生成聚电解质而影响体系的稳定陆 ],所以人们不断寻找 新的聚合工艺如种子聚合瞄、两步注射过程嘲等,以提高胶粒的表面电荷密度。Y.Chondc等 人0把能与水、苯乙烯互相混溶而不溶解其聚合物的CHOH作为助溶剂,加到苯乙烯一对一苯 乙烯磺酸钠(NaVBS)组成的的无皂乳液聚合体系中,讨论了CH~OH对胶粒平均直径 r)、浓 度(¨)以及分散度的影响,但未提及CIhOH对NaVBS参加共聚的能力的影响,对胶粒表面性 质没有进行表征。本文在前文的基础上口],在MMABA-NaAS体系中加入 CH~OH,详细讨论丁 各种反应条件对胶粒性质、聚电解质量的影响,并与无CH~OH时进行了比较。 l 实验部分 I—I 试剂 CHOH为分析纯,未经处理,其他试剂及规格同前文 。 12 聚合试验 同前文 ]。反应结束后,拔去瓶塞,蒸去甲醇,然后放在真空烘箱中过夜。 1.3 胶粒平均直径(Ir)、表面积 )、形态表征 均同前文叫。 1.4 离子交换一电导滴定 胶粒表面电荷密度表征同前文嘲。 收倩日期 :l992—03—16 维普资讯 高卦子材料科学与工程 水溶物表征:将乳液用阳离子交换树脂交换,然后用0.011nol/lNaOH水浓液进行电导滴 定 所得结果减去粒子表面结合基因,即得溶于液相及吸附在胶粒表面上的来反应离子型单 体、齐聚物、聚电解质。 ’ :面翻 、 · ~

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