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ZnSe/Si异质结纳米线的研究
摘要
半导体异质结纳米线由于其独特的形貌结构和不同于体材料的
优异特性,己成为当今纳米材料科学研究的热点之一。本文采用基于
密度泛函理论的第一性原理赝势平面波方法,使用CASTEP软件研
究了不同掺杂浓度下的ZnSe/Si异质结纳米线,在理论层次上对纳米
线结构稳定和电子性质进行研究探索,为今后纳米器件的研制及应用
提供了一个良好理论依据。
首先,文章构建了(110)方向的ZnSe/Si异质结纳米线模型,对含
有表面悬挂键和使用氢原子钝化表面悬挂键两种情况下掺杂浓度渐
变对纳米异质结材料的稳定性进行研究。研究发现,经过结构优化,
异质结纳米线中的所有原子都进行了表面重构,特别是有Si掺杂的
ZnSe/Si纳米线晶格畸变较大,在异质结外表面处的原子向外弛豫幅
度较大,而中心处的原子向内弛豫幅度较小。接着,对纳米异质结的
晶格常数进行了测量,由于ZnSe和Si两者之问有近4%的晶格常数
1aw所示的线性关系,呈
失配,因此在一定程度上却偏离了Vegard’s
非线性变化。但随着组分Si含量增加,异质结纳米线晶格常数减小
的总趋势未改变。
其次,结合能是衡量纳米线结构稳定性的另一个重要参数。本文
对比分析了不同掺杂浓度下未饱和及氢原子饱和表面悬挂键两种情
znse/si异质结纳米线的研究
况下纳米线的结合能,发现随着组分硅含量的增加,纳米异质体系结
合能线性增大,材料结构越稳定。并且,使用氢原子饱和表面悬挂键
的ZnSe/Si异质结纳米线更易被合成。
然后,本文研究了表面悬挂键效应对于ZnSe/Si异质结纳米线电
子特性的影响,发现含有悬挂键的纳米异质结构呈现出金属性,而使
用氢原子饱和表面悬挂键可以有效的消除悬挂键的表面态对于电子
结构特性的影响,使纳米线转变为半导体材料。另一方面,我们对掺
杂即杂质硅含量的变化对纳米线能带结构的影响进行了详细分析,发
现掺杂对于纳米线异质结能带结构起到了有效的调制作用,其中,纯
硅纳米线表现出异于体硅材料的特征,变为直接带隙的半导体,并且
禁带宽带明显增加。特别的,杂质能级对带边的影响使ZnSe/Si纳米
线异质结可在N型半导体和P型半导体之间相互转化。当掺杂浓度
相对较低时,纳米线呈现出N型半导体特征,而当掺杂浓度较高时,
纳米线则转化为P型半导体。这个突破性的结论对于纳米异质材料在
光学及电学领域的应用,提供了重要的依据。
最后,在完成上述工作的基础上,对Ga、N掺杂闪锌矿结构InSb
的电子结构进行了系统研究,结果表明单独掺入N或Ga时,带隙无
法打开,并且发现随着N含量的增加,可以形成零带隙半导体InSbN,
这对于研究零带隙半导体材料工程提供了一定的参考价值。而共掺杂
Ga和N时,其带隙变化明显。
关键词:第一性原理,ZnSe/Si,异质结,纳米线,电子结构
苹季天学
THE
STUDYoF
ZnSe/Si
NANOWIRES
ABSTRACT
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