脉冲激光沉制备类金刚石薄膜及分形生长的研究.pdfVIP

致谢 首先感谢我的导师方容川教授和马玉蓉教授。自从1997年进入到实验室以 来，方老师就强调要紧跟科研的前沿，注意文献调研，紧紧把握本领域最新发 展动向。鼓励我独立地开展工作，培养光、机、电等多方面的实验技能。强调 要有创新意识和开刨精神，注意理论联系实际，把所学的课本知识运用到科研 中去。特别感谢我的导师马玉蓉教授。马老师亲自参加实验的设计和讨论，对 许多实验进行了具体的指导，对论文进行了很多细致和富有启发性的修改。此 外，马老师在学习、生活上给予了我特别的关怀和照顾。而今，我在脉冲激光 沉积方面积累了大量的宝贵经验，基本具备独立从事科学研究的能力。感谢两 位导师对我近五年来的淳淳教诲。 感谢王冠中老师，余庆选老师，张纪法老师和廖源老师，感谢他们在工作 和学习中对我热情的指导和耐心的帮助。特别感谢王老师和廖老师平时对我极 有助益的指导和讨论。 作者感谢中国科技大学结构中心开放实验室的各位老师，以及国家同步辐 射实验室薄膜厚度台阶测试室的徐向东老师和化学物理系微区拉曼光谱实验室 的陈东明老师。感谢他们在样品测试方面所给予的热心帮助。 作者感谢PLD实验室的缪斌老师。他在激光器使用方面所给予的帮助，保 证了实验得以顺利地完成。 作者感谢实验室中的各位同学。感谢叶祉渊、常超、尚乃贵、邵庆益、吴 气虹、揭建胜诸位博士，薛剑耿、叶峰、李灿华、于琳、牛晓滨、韩新海诸位 硕士。以及王代冕、李艳秋、徐光晓、洪振东、徐华春等同学。感谢他们在工 作和学习中所给予的大力帮助和热心支持。 在此，我要特别感谢我的父母。感谢他们二十多年来对我的养育之恩。同 时要感谢我的姐姐和弟弟对家里所作出的无私奉献。谨以此文献给他们。 沈维康 二00一年五月 脉冲激光沉积制备类金刚石薄膜及分形生长的研究 7．^／?凸≠．够一 摘要 鲞全型互堕隧．(DLC)因为其结构的特点和性质的卓越，吸引了众多研究 者的目光，成为凝聚态物理、材料科学与工程等领域的重要研究和开发对象。 脉冲激光沉积(PLD)方法是制备DLC薄膜一种很有潜力的手段。然而，它在 生长机理、优化生长参数等方面存在问题值得进一步研究。本文系统地研究了 塑监壶芷长、功率密度、H2气氛、N2气氛、虿墨塑的处理等因素对PLD方法制 备DLC薄膜质量的影响。并从分形生长的角度探讨了PLD沉积的机理。 l第一章回顾了DLC薄膜的研究历史。比较了多种不同的制备方法及表征手 段。系统总结了类金刚石薄膜的结构、物性、应用，PLD沉积DLC薄膜的研 究进展和发展趋势。 第二章利用Nd：YAG激光器的倍频特点，使用Ramall．散射的手段，研究了 在不同激光波长(266nm，532nm)和不同的激光功率密度下生长DLC的规律。 我们发现，266nm波长激光更有利于提高薄膜的sp3碳的比例。这与文献报道的 短波长有利于沉积高s矿碳比例的DLC是一致的。对266nm波长激光而言，降 低激光功率密度有利于减少D．峰半高宽和提高膜中sp3碳的比例。用Nd：YAG 激光在266nm波长下，我们制备出有明显1332cm。峰的DLC薄膜。 第三章研究了气氛对PLD沉积DLC薄膜的影响。我们发现H和N对DLC薄膜制 备的影响是多方面的。一方面，H：对DLC薄膜中的sp2杂化的碳有刻蚀作用，增加 薄膜中sp3杂化与sp2杂化的碳原子之比，对其晶化程度也有增强的作用。另外一 方面，在合适的H：气压下，能促使碳纳米管的形成。对N：气氛而言，在较低浓度 时它主要表现为对DLC薄膜种石墨化成分的抑制作用。这种作用比在氢气氛时要 强很多。而当其气压增加时，则主要表现为对DLC薄膜的掺杂。我们在较高N2浓 度时，制备出了具有很好晶形的碳氮膜。分析表明，这可能是理论上所存在的 a相C3N4。 在此基础上，研究了石墨靶对PLD沉积DLC膜的影响。发现用激光预处理 的石墨靶能有效减少薄膜表面颗粒沉积物的数目，提高其表面的平整度和光滑 摘要 度。我们从激光表面强化和材料热学性质的改变对此进行了探讨。认为这是一 种获得高质量