《1，3，5-三甲基-1，3，5-三（3′，3′，3′-三氟丙基）环三硅氧烷的阴离子开环（共）聚合研究进展》.pdfVIP

维普资讯 第21卷第4期 高分子材料科学与工程 v。1．21，N0．4 2005年 7月 POIYMERMATERIALSSCIENCEANDENGINEERING Ju1．2005 1，3，5一三 甲基一1，3，5一三 (3，3，3一三氟丙基) 环三硅氧烷的阴离子开环 (共)聚合研究进展 易玲敏，詹晓力，陈丰秋 (浙江大学化学工程与生物工程学系，浙江 杭州 310027) 摘要：1，3，5一三甲基一1，3，5一三 (3，3，3-三氟丙基)环三硅氧烷 (F3)的阴离子开环聚合可以合成优越耐 油耐溶剂性能的聚甲基三氟丙基硅氧烷 (PMTFPS)，但在开环聚合过程 中 “反咬”与再分布副反应严重， 要得到高分子量、高产率的氟硅聚合物材料，必须严格控制聚合反应条件 。文中总结了本体、溶液、细乳 液中F。的阴离子开环聚合影响因素、机理与动力学，以及F。与其它单体共聚合反应等方面的研究进 展 。 关键词：甲基三氟丙基环三硅氧烷 ；聚甲基三氟丙基硅氧烷；氟硅聚合物 ；阴离子开环聚合 中图分类号：TQ316，341 文献标识码：A 文章编号：1000—7555(2005)04—0005—05 1 前言 阴离子开环聚合，特别是用于合成嵌段共聚物， 1，3，5一三 甲基一1，3，5一三 (3，3，3一三氟 具有很高的理论与应用价值。本文将分别对F。 丙基)环三硅氧烷 (简称 F。，如 Fig．1，有顺、反 的本体、溶液、细乳液中的阴离子开环聚合影响 两种异构体[1)的开环聚合可合成性能比聚二 因素、机理与动力学 ，以及 F。与其它单体的共 甲基硅氧烷(PDMS)更优越的聚甲基三氟丙基 聚合等方面的研究进展作一综述。 硅氧烷 (PMTFPS)。PMTFPS不但具有独特的 低表面能、低玻璃化温度及优 良的耐热性、耐候 M R Me ， 性等性能，而且含氟基团的引入能有效解决聚 ／ si＼ ／ si＼ O O O O 硅氧烷不耐油和不耐有机溶剂的缺点，可做成 M ．sl、 ．Me ，sj、，!i．Me 氟硅弹性体、密封剂和高性能的低表面能防污 ／ ＼o／ ’’．R ．，， ＼o／ 、’．R 涂料[2]，以及作为共聚组成用来改善聚合物 R R R=(’H Cll{，Cr 的表面性能和合成新型的低表面能高分子材 cis—F3 trans-F3 料 。’。 R—CH2CH2CF3 只有少量的文献报道了F。的开环聚合 ，其 Fig．1 Chemicalstructureofcis-Fsandtrails-F3 中聚合方式有阴离子开环 ]、阳离子开环L9]、等 离子体开环[1等。氟的引入对环三硅氧烷的开 2 本体开环聚合 环聚合会产生重要影响[1¨，CF。基团的吸电子 通常采用碱金属的氢氧化物、季铵氢氧化 诱导效应 ，使 Si原子正电性增加 ，令 Fs有利