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- 2015-11-06 发布于安徽
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电场下应变GaN/AlxGal_xN异质结中的杂质态及压力效应
摘 要
光电子器件,特别是高亮度的蓝/绿发光二极管和激光二极管等方面应用的快速
发展而受到人们的广泛关注.对应变宽带隙半导体异质结构材料的研究对其物
性改进和理论发展有着重要的实际意义,并可为半导体器件的设计提供指导和
新思路.
本文将简化相干势近似推广到计算三元混晶参数,将改进的LLP变换方法
用于处理电子.声子相互作用,采用变分法研究外电场作用下应变氮化物半导体
实际异质结中施主杂质态的结合能,并讨论压力,屏蔽和电子.声子相互作用对
其的影响.本文的工作分为三个主要部分.
相对于纤锌矿结构,闪锌矿结构氮化物半导体具有高对称性、低声子散射率以
及易于解理等优点,故对其进行深入研究有着重要意义.从结果发现,杂质态结
合能随流体静压力呈近线性变化.电场对杂质态结合能的Stark效应则随杂质位
置不同而呈现谱线蓝、红移动.对于不同的晶体生长方向,杂质态结合能对于电
场、压力和Al组分变化的敏感程度有显著差异.
基于第一部分研究闪锌矿氮化物异质结的基础上,本文的第二部分,将工
作向自由应变纤锌矿氮化物异质结进行扩展,讨论其中的杂质态问题.我们对
效应及压力效应进行了理论计算,并进一步考虑无规相近似
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