《基于红外热像分析的绝缘子污闪过程中干区形成过程分析》.pdfVIP

第40卷 第 1期：138-146 高电压技术 Vo1．40，No．I：138-146 2014年 1月 31日 HighVoltageEngineering January31，2014 DOI：10．133368．1003-6520．hve．2014．01．020 基于红外热像分析的绝缘子污闪过程中干区形成 过程分析 梁 飞，MacAlpineMark，关志成，张若兵 (清华大学深圳研究生院，深圳518055) 摘 要：形成干区是污闪发生的前提条件之一，为此重点从热的角度分析了干区的形成过程。用两端带有铝电极 的矩形玻璃板模拟实际绝缘子，用红外热像仪拍摄了雾室中绝缘板表面干区形成中的温度分布变化，同时用泄漏 电流测量系统实时记录了泄漏电流的变化。最后，将温度分布变化和泄漏电流趋势联系在一起，细致地分析了干 区的形成过程，并得到了干区形成过程中的一些规律：加压之初，污层表面温度均匀稳定升高；干区形成之前污 层表面会出现持续的高温区，局部干区首先形成在高温区；局部干区向完整干区的发展在温度分布上表现为高温 在污层的贯穿；完整干区形成后，污层总体温度下降，但是干区呈现扩大趋势；干区达到稳定后，湿区温度降低 为环境温度，干区依旧维持高温且温度由干区中心向两侧递减。因此，干区的形成不仅仅是一个电的过程，同时 也是一个热的过程。 关键词：污闪；干区；温度；红外热像仪；泄漏电流；平板模型；人工污秽试验 FormationofDryb·andintheProcessofPollutionFlashover BasedonInfraredThermalImageAnalysis LIANGFei，M acAlpineMark，GUAN Zhicheng，ZHANGRuobing (GraduateSchoolatShenzhen，TsinghuaUniversity,Shenzhen518055，China) Abstract：Theformationofdry-bandsiSoneofthepreconditionsofpollutionflashover．Wena alyzedthisformationfrom perspectiveofheat．A rectna gularsheetofglasswithelectrodesonitstwosideswasusedtosimulateinsulator,andna inrfaredcamerawasusedtorecordhtetemperaturechna geofhteinsulationsurfaceduringtheprocessofdry—bandofr_ mation．Inthemeantime．currentwasalsorecorded．Finally,htetemperaturedistributionnadhteleakagecurrentvariation werecombinedtoclarifyhteprocessofformationofdry．bands．Someconclusionsraedrawnasofllows：thetemperature ofthepollutionlayerincreasesevenlynadstablyintheinitialperiodofvoltageapplication；somehightemperaturezones willfomr beforeadry．bandisfomr ednadhtedry-bnaddevelopsinthislocationinitially；hteprocessofalocaldry．band developingintoacompletedry-bnadcorrespondstothebreakthroughofhightempera