多靶磁控共溅合成nc-B4C%2fa-Ti和nc-B4C%2fa-Si3N4纳米复合薄膜的研究.pdf

Stu dy of n c-B 4C /a-T i an d n c-B 4C /a-S i3N 4 N an ocom p o site C oatin gs P rep ared b y M u lti-target M agn etron C o-sp u tterin g B y L iu M en g y in A D issertatio n P resented to A cadem ic D egree C om m ittee to T ianjin N orm al U n iversity In C an d idacy for T h e D egree of M aster of E n g in eerin g Sup erv isor :P rof. L i D ejun C ollege of Phy sics and E lectron ic Inform ation S cience T ianjin N orm al U n iv ersity ‘ M arch 20 12 中 文 摘 要 摘 要 本 文利 用 多靶 磁控共溅射 技术在 Si(lOO)基底 和 不锈钢基底 上设计 合成 nc-B 4C /a-T i和 nc-B 4C /a-S i3N 4 纳米 复合 薄膜 。利用表 面轮廓 仪 ，纳米力学测试 系 统 ，摩 擦 磨 损 测 试 系 统 研 究薄膜 的 内应 力 ，表 面硬 度 、弹性 模 量 ，薄膜 与 基 底 的 附着力 以及摩擦 系数和耐磨性 ；还通过 X 射线衍射 (X R D )和透射 电子显微镜 (T EM )等分析手段研究 了薄膜 的结构特征 ；通过 X 射线光 电子能谱测试 (X PS)分 析 其 成 分 和 元 素 的化 学 结合 方 式 。揭 示 实验 参 数 和 纳 米 复 合 薄 膜 结 构 ，成 分 以及 力 学性 能之 间 的相 互 关 系 ，找 出合 成 最佳 的工 艺 ，使 复合层 膜 体 系拥 有 较 高 的硬 度 和 附着 力 ，同时具有较低 内应 力和摩擦 系数 ,希 望成 为应 用 于 刀具 的涂 层 材 料 , 提 高刀 具 的切 削速 率 ，延 长 刀具 的使用 寿 命 。 使用 B 4C 和 T i 靶通过磁控共溅射方法在 Si(100)基底和不锈钢基底上制备 nC-B 4C /a-T i纳米 复合层膜 。主要讨 论 了工作气压 ，基底 温度对 薄膜 结构 的形成 与 性 能 的影 响 。X R D 表 明复合 薄膜 中 B 4C 成 纳米 晶态 ，而 T i几乎全 部 为无 定 型 态 ， X R D 也 表 明不 同 的实验 条 件 能 导 致 不 同 的结 晶状 态 ，从 而 影 响薄 膜 的力 学 性 能 ， T EM 图像 则 清 晰 的显 示 了典 型 的纳 米 复 合 结 构 。X PS 显 示 工 作 气 压 和 基 底 温 度 的变 化 对 薄膜 中各 元 素 的结合 方 式 几 乎 没 有 影 响 。当基 底 温 度 为 400 °C 工 作 气 压 为 0.5Pa 时，薄膜具有最高的硬度 (42G Pa)和 临界载荷 (88m N )。室温下合成 的薄 膜具有最低 的摩擦系数 (0.15)和较好 的耐磨性 。 利用 多靶共溅沉积 系统制备 了 nc-B 4C /a-Si3N 4纳米 复合薄膜 ，主要分析 了基 底 温度 和 基 底 偏 压对 薄膜 结构 与性 能 的影 响 。T E M 显 示 出 了典 型纳 米 复合 结 构 ， X R D 表 明复合薄膜 中 B 4C 成纳米 晶态 ，而 S i3N 4几乎全部为无定型态 。X P S 显 示 不 同的基 底 偏 压 会 导致 复合 薄膜 中 B -N 之 间 的结合 方 式发 生变