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摘要
摘要
本文以高速制备兼具优异光电特性和高稳定性的氢化非晶硅薄膜为主要研
究内容,从设备改进和性能分析、薄膜制各工艺两方面展开自己的研究工作。
由于单磁场线圈微波电子回旋共振化学气相沉积(MWECRCVD)系统设备
相对简单,对微波吸收效率不高。为了提高系统的性能,我们对其微波窗口、耦
合波导、磁场分布等都进行了精心的设计。实验中,选择多层不同介电常数的绝
缘板组成微波输入窗,来达到阻抗匹配和抑制功率反射,增加微波吸收功率和提高
等离子密度的目的,采用A1203陶瓷和BN组成的微波输入窗。这种设计,一方
面能很好地保护微波系统,另一方面又能使微波高效地馈入,效率高;同时采用
三角形均铜片的耦合矩形波导的设计,使微波转换功率达92%;磁场分布的设
计上,通过改变磁场线圈电流来实现,当磁场线圈电流减小时,ECR区位置朝
微波窗口方向移动,将更有利于提高微波的吸收。采用磁场电流为115.2A产生
的磁场分布,可以使微波的功率吸收在1分钟内达到92.3%,18分钟内达到94.6
%。在沉积室的磁场分布的改变,还可以通过在衬低下面放置永磁体的方法来获
得,采用这种方法,在沉积室内可以得到由原先的发散的磁场分布改变为一种先
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