《偏压对铀表面多弧离子镀TiTiN多层膜的结构及抗腐蚀性能影响研究 Structure and Corrosion Resistance of Multi-layer TiTiN Films Prepared on Uranium by Arc Ion Plating Under Different Bias Voltages》.pdfVIP

偏压对铀表面多弧离子镀Ti/TiN多层膜的 结构及抗腐蚀性能影响研究 刘天伟1王小英1江帆2唐凯2魏强2 1.表面物理与化学重点实验室，四川绵阳座机电话号码.中国工程物理研究院，四川绵阳621900 摘要：在不同偏压下，利用多弧离子镀技术在U和Si基体上制备了Ti/TiN多层薄膜。利用X射线衍 射仪和扫描电镜对多层膜的组织结构和薄膜界面形貌进行了分析。研究表明：脉冲偏压不但影响多层 膜物相各衍射峰的强度，还诱导新相Ti2N的出现。制备的多层膜呈 “犬牙”交错的层状、柱状结构生长。 随脉冲偏压的增加，柱状晶结构细化，薄膜变得更加致密。通过50μg/gCl-溶液腐蚀研究表明：Ti/TiN 多层膜提高抗腐蚀性能源于层状失效，使得腐蚀介质到达基体更加困难，抗腐蚀性能优良。 偏压；铀；Ti/TiN多层膜；结构；抗腐蚀性能 TL214.6 A 1000-6931 2011 08-1020-05 StructureandCorrosionResistanceofMulti-layerTi/TiNFilms PreparedonUraniumbyArcIonPlating UnderDifferentBiasVoltages LIUTian-weiWANGXiao-yingJIANGFan TANG KaiWEIQiang 2010-11-04 2011-05-21 刘天伟 1968- ,男，四川遂宁人，副研究员，博士，表面改性专业 第8期 第45卷 第8期 @@[3] ICHIMUEAH,RODRIGOA.Thecorrelation ofscratchadhesionwithcompositehardnessfor TiNcoatings[J].SurfCoatTechnol,2000,126 2-3 :152-158. @@[4] CHENGHE,WENYW.Correlationbetween processparameters,microstructureandhardness oftitaniumnitridefilmsbychemicalvapordepo sition[J].SurfCoatTechnol,2004,179:103- 109. @@[5] YASHARPS,WILLIAMD.Nanometerscale multilayeredhardcoatings[J].Vacuum,1999, 55:3-4. @@[6]主庆富，张鹏程，陈林，等.铀表面脉冲偏压 MSIP铝镀层的电化学腐蚀行为[J].原子能科 学技术，2009，43 7 :594-599. WANGQingfu,ZHANGPengcheng,CHEN Lin,etal.Electrochemicalcorrosionbehaviours ofpulsedbiasMSIPaluminumcoatingondeple teduraniumsurface[J].AtEnergySciTechnol, 2009,43 7 :594-599 inChinese . @@[7]王庆富，鲜晓斌，刘柯钊，等.脉冲偏压对贫铀表 面磁控溅射离子镀铝结合强度的影响[J].原子 能科学技术，2007，41 3 :268-272. WANGQingfu,XIANXiaobin,LIUKezhao,et al. Effectofpulsebiasvoltageonadhesive strengthofmagnetronsputteringionplatedAl coatingondepleteduraniumsurface[J].AtEn ergySciTechnol,2007,41 3 :268-272 inChi nese . @@[8] HLILZG,HOLLECKH.Structureandeffects ofinterfacesinTiC-TiB2-B4C-SiCnanosizemulti layersystems[J].SurfCoatTechnol,1996,14 1-3 :97-104. @@[9] DINGY,FARHATZ,NORTHWOODDO. Mechanicalpropertiesandtribologicalbehaviour ofnanolayeredAl/Al2O3andTi/TiNcomposites [J].SurfCoatTechnol,1994,68-69:456-467. @@[10]RENCS,MEIXX,MATC.ThickTiNfilms preparedbyvacuumarcdepositionandhighener geticnitrogenionbeamdynamicmixingimplanta ti