电阻型存储器器与工艺研究
摘要
摘要
存储器在半导体市场中占有重要的地位,随着便携式电子设备的不断普及,
不挥发存储器在整个存储器市场中的份额也越来越大。目前,Flash占据了不挥
发存储器市场90%的份额,但随着半导体工艺节点的不断推进,Flash遇到了越
来越多的瓶颈问题,比如浮栅厚度不能随器件尺寸的减小而无限制减薄,有报道
预测Flash技术的极限在32nm左右,此外,Flash的其他技术缺点也限制了它
的应用,如写入速度慢,操作电压高等。这就迫使人们寻找性能更为优越的下一
代不挥发存储器。最近电阻存储器因其高密度、低成本等特点受到了高度关注,
Pr。,Cain03H1、二元金属氧化物材料嘲、有机材料旧等,受电或热等能量的作用下,
在高阻和低阻态之间转换。以相变材料为存储介质的阻性存储器亦被称作为相变
存储器(Phase
ChangeMemroy,简称PCM),在读写速度、读写次数、数据保持
时间、单元面积、多值实现等诸多方面都具有极大的优越性,成为未来不挥发存
储技术市场主流产品最有力的竞争者之一。目前应用最广泛的是GeSbTe(简称
GST)合金材料,在电的作用下使其在晶态和非晶态之间转换,对应为器件的低
阻态和高阻态。当前,在相变存储器研究领域中,写操作电流(RESET电流
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