薄膜光学第四章..pptVIP

结合具体使用场合选材 胶合使用的场合，对机械和化学性能比较低； 潮湿场合，对耐潮湿性能比较讲究； 海面应用场合，对盐碱类的腐蚀作用比较讲究； 高温高寒场合，强调温度的影响； 高能激光薄膜，考虑抗激光损伤阈值。 抗高能辐射：激光、紫外辐射或高能粒子都可引起薄膜损伤。 1）激光波长、激光脉冲宽度和重复率； 2）薄膜材料本身的性质，如吸收、薄膜结构、机械强度、附着力、应力、热稳定性、熔点、热导和热膨胀系数等。 作业题 提高膜层的机械强度需要考虑哪些工艺参数？请简要说明原因。 对介质或半导体薄膜材料,有哪五个方面的性质比较重要？请简述之。 影响膜层厚度均匀性有哪些主要因素？ 教学内容 教学目的和要求 光学薄膜器件的质量要素（光学性能、机械、环境等）；影响膜层质量的工艺要素；获得精确膜层厚度的方法；获得均匀膜层的方法。 了解和掌握影响光学薄膜质量的主要因素以及控制方法。 光学镀膜技术 光学镀膜工艺 光学镀膜理论和设计 4.1 光学薄膜器件的质量要素 光学镀膜器件的光学性能 光学薄膜的光学常数：折射率和厚度。 膜层折射率误差来源、膜层厚度误差来源 膜层折射率误差来源 1）膜层的填充密度，也叫聚集密度。它是膜层的实材体积和膜层的几何轮廓之比。 2）膜层的微观组织物理结构。即使用同样的膜层材料，采用不同的物理气态沉积技术（PVD），得到的膜层具有不同的晶体结构状态，具有不同的介电常数和折射率。 3）膜层的化学成分。 采用PVD的热蒸发技术制造光学薄膜几乎每一种化合物的膜层材料蒸发时都会有一定程度的热分解。沉积在基板表面的膜层是蒸发源材料热分解后又在零件表面再次化合反应的化合物膜层、分解物以及未分解材料的混合物，而且分解、化合反应进行的程度也受不同工艺的影响。最后所得到的是混合物的平均折射率。 控制膜层折射率就是要控制这三个因素的影响！ 光学镀膜器件的机械性能: 硬度和牢固度 硬度：是由膜层材料本征性能和膜层内部结构的紧密程度共同决定的宏观性能。 1）高硬度的膜层材料，即先天条件要好； 2）选用适当的镀膜技术提高膜层的紧密程度。 牢固度：膜层对于基片的附着或黏结程度。由膜层和基片之间的结合力的性质决定。 化学键的结合比物理性质的范德华力牢固得多； 基片表面的清洁程度； 成膜粒子的迁移能，尤其是与注入效应有关的迁移能。 带电离子沉积技术（溅射、离子镀和离子辅助度）比单纯的热蒸发技术能得到更牢固的膜层。 光学镀膜器件环境稳定性 环境因素：盐水雾水、高温高湿、温度剧变、酸碱腐蚀等。 选用化学稳定性好的材料作为膜料； 提高膜层的聚集密度。 对于致密膜层，酸、碱、盐、水等对膜层的腐蚀是面腐蚀，腐蚀速度慢，耐久性强；相反对于结构疏松的膜层，酸、碱、盐、水等对膜层的腐蚀会渗透到内部，属于体腐蚀，腐蚀速度快，耐久性差。 选材受到的制约往往比较多，所以提高光学镀膜器件耐久性关键是提高膜层的填充密度。 膜层填充密度对膜层质量的影响 膜层填充密度的定义： 膜层材料的折射率为nf，实心材料的折射率为ns，膜层内空隙介质的折射率nv。则有 加权平均折射率 膜层填充密度可以影响到折射率、膜层的机械强度和稳定性、膜层应力和散射等。 膜层填充密度：膜层颗粒大小、膜层密度。 大颗粒膜层带来1）膜层表面粗糙，于是光线散射损耗大，表面摩擦系数大，抗摩擦损伤能力差。2）结构疏松，不结实。 提高膜层填充密度需考虑的工艺因素有： 基片温度、沉积速率、真空度、蒸汽入射角以及离子轰击等。 膜层填充密度低，膜层内空隙分量加大。 1）膜层与基底间的吸附能力小，膜层结构疏松、牢固度差； 2）膜层结构不规则，均匀性差； 3）空隙吸收环境气体导致膜层有效光学厚度对环境温度变化比较敏感，导致光学特性不稳定； 4）增加光学损耗，降低光束质量； 5）表面粗糙，抗摩擦能力差； 6）不结实； 7）抗腐蚀性能差。 4.2 光学薄膜器件质量的工艺要素 真空镀制光学薄膜的工艺过程为 清洁光学零件 清洁真空室 固体光学零件 抽真空、零件加温 膜层控制仪器调整 膜料蒸发或升华 镀膜 膜后处理 检测 真空度的影响： 1） 高真空度减少蒸发分子和残余气体的碰撞； 碰撞引起蒸发气体运动散乱，使膜层材料蒸汽分子动能变小。 2） 抑制它们之间的反应。 蒸发分子和残余气体间的反应影响光学膜的纯度。 沉积速率的影响： 沉积速率：单位时间内在被镀表面上形成的膜层厚度来表示。是描述薄膜沉积快慢的工艺参数（nm.s-1）。 沉积速率低，凝结只能在大的聚集体上进行，膜层结构疏松。提高沉积速率，膜层颗粒细而致密，膜层均匀，散射小，牢固度好。 沉积速率影响主要的薄膜参数：折射率、牢固度、机械强度、附着力等。 提高沉积速率的方法：提高蒸发源的温度和增大蒸发源的面积。 受真空度影响主要的薄膜参数：折