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摘 要
在给定两水平部分因析设计作为初始设计的情况下,有时会对该初始设计
采用一种简单但十分有用的doubling方法产生一个新的两水平的新设计,其试
验行数和试验因子个数是初始设计的两倍,并把产生的新设计称为double设计。
本文基于中一t二,L2偏差和可卷己2偏差,对由两水平矿.型设计X构造的double设
计D(X)的均匀性作了研究和讨论,得到了double设计在这两种偏差下的下界。
基于这些下界,可以度量double设计的均匀性程度。.
关键词:Double设计,偏差,部分因析设计,Hamming足E离,均匀性.
3
Abstract
Givenatwo。levelfractionalfactorial wecoulduse
a but
design,sometimessimple
to anew
methodconstructtwo·levelfractionalfactorial method
powerful design,such
iscalled method anotherwhichhastwotimesboth
doubling.Doublingproducesdesign
therunsizeandthenumberoffactorsof
theinitial this on
design.Inpaper,based
thecentered and the
L2·-discrepancywrap-aroundL2-·discrepancy,westudyuniformity
ofdouble areobtained two—level
designs
D(X)that bydoubling U·typedesigns.Two
of boundsare which
kindslower obtainedCanbeusedasbenchmarksin the
evaluating
ofdouble
uniformitydesigns.
words:Double factorial
Key design,Discrepancy,Fractionaldesign,Hamming
distance,Uniformity.
4
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