晶体冷加工.ppt

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在保存及使用中产生的霉雾 1、水性雾斑:产生原因:在潮湿的空气下,因有水汽凝结在零件表面形成雾滴长期附在零件表面上就会形成雾斑。主要与材料种类、温湿度以及零件表面处理方式有关。 2、油脂雾斑:产生原因:清洗时残留下在零件表面的油脂性物质然后由于水分和空气对零件的侵蚀使油脂浮气而聚集在零件表面上形成很多极细的细点。 3、生物性霉变:产生原因:霉菌孢子在玻璃表面长出菌丝体,霉菌分泌物有酸性故能损坏玻璃表面。 保护光学零件的方法: 1、设计产品的时候选用化学材料比较稳定的材料。 2、对化学性能比较差的光学零件,加工周期越短越好,周期越长越会产生霉雾,所以每道工序完工后应立即处理,并在表面涂保护漆。 3、光学零件抛光后同镜盘一起放入烤箱把表面考干后再涂上保护漆保护好抛光面再下盘清洗。 4、抛光好的零件不要用手去触摸。 5、利用化学药品蒸汽来杀死或控制某一空间的孢子比如香草粉等 6、光学零件存放在干燥器皿中。 晶体冷加工培训资料 抛光常用的术语说明 术语 符号 说明 光圈、面形 N 光波在被检光学表面与参考表面间由干涉所形成的条纹 光圈不规则度 △N 光波在被检光学表面与参考表面间所产生的干涉条纹的不规则度 光学表面疵病 B 光学零件抛光面上的麻点、擦痕、开口气泡、破点及破边等 塔差 π 一般指在三棱镜中,棱与其所对的光学平面间的夹角 平行度 θ 玻璃平板的两个表面的平行度 第一光学平行差 第二光学平行差 θ1 θ2 光线从反射棱镜的入射面垂直入射,在出射前对出射面法线的偏差。在入射面光轴截面方向的分量,称做“第一光学平行差”;在垂直于光轴截面方向的分量,称做“第二光学平行差” 光圈: (1)N1/N2=D12/D22 N1(产品)-直径为D1(产品)的工件表面光圈数 N2(小样板)-直径为D2(小样板)的工件表面光圈数 例:要求产品光圈数=3,直径=20,只有小样板直径=15,用小样板 检测产品时光圈数应该是: N2= N1*D22/D12=3*152/202=1.7 (2)光圈与光源波长的关系 国家标准规定标准光圈数N0的参考波长为λ0=546.1nm,生产中若采用其他波长λ的单色光检验,得到非标准光圈数Nλ,则标准光圈数N0和非标准光圈数Nλ的关系如下: N0/Nλ=λ/λ0 (光学常用光圈波长为632.8nm) 抛光原理 机械学说: 1)抛光表面有起伏凹凸的现象。 2)当磨料很细,而且加工压力很小时,磨料也能做抛光剂。 3)抛光粉颗粒直径在一定范围内,抛光效率与抛光粉颗粒大小成直线关系。 4)抛光速度和压力对抛光有很大的影响。 化学学说 1)水在抛光过程中起重要作用,使表面玻璃发生水解,形成硅胶保护膜层, 在加工过程中,抛光模和抛光剂颗粒随时从玻璃凹凸层突出部分除去膜层而新膜层产生,不断进行,直到表面完全平整为止。 2)抛光模化学作用:抛光柏油中的树脂酸和玻璃中碱或碱土金属发生作用使表面形成硅胶层加速了抛光效果。当毛毡做抛光模时,水解后得到的氨基酸既能与玻璃中的阴离子作用也可以和阳离子作用,所以抛光效率高(对去除麻点)。 3)抛光剂的化学作用:不同结晶和不同晶格缺陷的抛光剂有不同的抛光效果。 4)抛光液的PH值影响:某些实验和分析结果认为抛光液PH在3~9对抛光效率有利。 5)抛光液中添加剂影响:在抛光剂中添加某种电介质可加速或减缓抛光速度。 6)玻璃化学成分的影响:在一定条件下,抛光效率与玻璃的化学稳定性成线性关系。 流变学说 1)由于摩擦热而引起的热塑性流动和热熔化流动。 2)由于化学作用引起的分子流动。 光学加工常见晶体材料 1、常用的晶体种类 单晶:整块材料呈现单一的长程有序,KTP, YAG 多晶体:有若干小的各种取向的单晶体组成, 陶瓷 非晶体:不呈现长程有序,如常见的光学薄膜Ta2O5   区别:使用XRD(X-射线衍射)进行识别. 玻璃:以SiO2为基的无规网状结构.        Question: 微晶玻璃是晶体? 液晶:一些物质的晶体结构被溶解或熔融后,呈液态,分    子位置呈现无序状态,但分子取向仍具有长程序,具有晶体和液体的性质. 晶体种类 电光晶体材料 LiNbO3, BBO, KTP, LiTaO3 Laser Crystal(激光晶体) ND:YAG Crystal Nd: YVO4 Crystal Nd:GdVO4 Crystal Ti:Sapphire (Al2O3:T

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