《碳膜平面式复合电极的制备及电化学性能-论文》.pdfVIP

第26卷第8期 化 学 研 究 与 应 用 Vo1．26，No．8 2014年 8月 ChemicalResearchandApplication Aug．，2014 文章编号：1004—1656(2014)08—1277435 掺硼金刚石膜 ／碳膜平面式复合 电极的 制备及 电化学性能 练发东，苟 立 (四川大学材料科学与工程学院，四川 成都 610065) 摘要：采用微波等离子体化学气相沉积法在本征硅上制备掺硼金刚石膜／碳膜平面式复合电极，其中硅片的一 面为掺硼金刚石膜，另一面为碳膜。通过 SEM和拉曼光谱分析了薄膜的表面形貌和成分，掺硼金刚石膜为纳 米级金刚石，碳膜表面有均匀分布的凹坑；利用四探针 、循环伏安法和交流阻抗法表征电极导电性和电化学性 能，随着沉积时间增加，电极方阻减小 ；在铁氰化钾溶液 中电极发生准可逆