化学法制备激光学薄膜及其激光损伤机理的研究.pdfVIP

摘要 摘要 溶胶一凝胶法作为一种新的镀膜方法用于制备激光薄膜还存在着许多技术 难点，本课题通过研究整个制膜过程中的复杂化学、物理过程，解决用该法制 备减反膜、多层介质反射膜等激光光学薄膜等存在的众多技术难点。本论文采 用溶胶一凝胶(S01．Gel)技术，结合EssentialMacleod膜系设计程序，对S01．Gel 方法制备的各种激光光学膜进行了理论设计、制备工艺改进、薄膜性能表征等 研究工作。此外还研究了溶胶一凝胶光学薄膜的激光损伤机理，并提出了一些 提高薄膜激光损伤阈值的方法。 本论文第一章介绍了化学法制备激光光学薄膜和光学薄膜激光损伤机理国 内外研究现状与发展趋势。对溶胶一凝胶技术、溶胶一凝胶薄膜制备技术、光 学材料激光损伤机理以及光学薄膜的激光损伤和破坏进行了阐述和归纳。 本论文第二章介绍了Maxwell方程组、物质方程和波动方程、平面电磁波 在介质中的传播、电磁波通过界面折射和反射的发生等基础理论。重点阐述了 光学增透膜理论基础和光学高反膜理论基础。运用EssencialMacleod薄膜膜系 设计软件对各种光学薄膜进行理论模拟。用堆积密度的概念模拟了溶胶．凝胶法 制备的纳米多孔薄膜的折射率；利用反射率增幅分析与膜层制备难度分析获得 了比较理想的膜系设计方案；结合一定的误差分析手段计算分析了各种反射膜 系光学特性，为光学薄膜的化学法制备与实际应用提供了重要依据。 本论文第三章针对实验室镀膜用玻璃基片的清洗方法进行了研究，提供了 一种将洗涤剂清洗方法、化学药品和溶剂清洗方法、超声波清洗方法以及烘烤 清洗方法相结合的玻璃和单晶硅基片清洗方法。介绍了激光预处理、紫外辐照 处理和光瞬态热处理方法，并进行了比较。 本论文第四章对化学法制备光学薄膜的溶胶．凝胶基础进行了研究，其中包 括溶胶的颗粒尺寸与胶联方式，团簇生长过程等。深入研究胶体形态、颗粒度、 胶联状态、胶体分散状态、溶胶粘度等参数对溶胶一凝胶法所制光学薄膜的力 学、热学、光学等性质的影响。研究制膜手段、后处理工艺等对薄膜微观结构、 物理化学性质、光学性质的影响。 以国产原料TEOS、钛酸丁酯等为硅、钛源，乙醇为溶剂，独创了碱／酸两 步催化方法，采用此法通过控制溶胶老化时间、温度等制备参数，控制Si02薄 摘要 膜的纳米结构，优化制备工艺过程，最终实现了光学薄膜纳米结构的人为调节 和薄膜折射率大范围内的精确控制。采用具有自组装性质的表面活性基团作为 化学裁剪手段，研究表面活性基团与胶体间的作用木质，调控和修饰胶体团簇 网络结构，制备了疏水的溶胶。首次使用了碱／酸两步催化方法和氨气与水蒸气 的混合气体中热处理以及高能光子辐照工艺技术，成功地强化了纳米颗粒间的 化学作用及纳米多孔网络结构，提高了光学薄膜的机械强度，创新性地解决了 光学薄膜脆弱、不耐磨等力学难题。在溶胶．凝胶纳米多孔薄膜的结构控制和折 射率调节的研究基础上，还相继研制和开发了各种功能性薄膜，应用前景广阔。 本论文第五章研究了在采用碱／酸两步催化技术和二元溶胶制备技术实现薄 膜折射率从1．16~2．40之间的连续调节的基础上，结合氨气与水蒸气混合气体中 的热处理及高能光子后处理方法成功地得到具有高激光损伤阈值和机械性能的 疏水型结构可控的纳米多孔光学减反膜的完善的制备工艺。获得了溶胶．凝胶 Si02薄膜光学常数在300-700nm波段的色散关系。制定了溶胶．凝胶工艺制备 Si02减反射薄膜的一般标准。制备了三倍频、基频和可见光区宽带减反射膜， 并将Si02减反射薄膜涂覆于聚对二甲苯防潮膜上，提供了防潮膜的光学性能。 双元薄膜和多层膜的制备工艺。探讨了多层膜层开裂的控制以及薄膜间界面均 匀性的提高，重点是Zr02薄膜质量的提高和其激光损伤机理的深入研究，从而 为制备高激光损伤阈值多层介质高反膜奠定基础。 采用水热合成法制备了单分散ZrO：溶胶，通过对水热合成实验反应物(氧 氯化锆，去离子水)的量、水热合成的温度、水热合成的时间、高压釜的填充 度的精确控制和调节，制得稳定性很好的溶胶，获得了Z峨一PVP溶胶的制备 工艺参数。用分散体系的布朗运动动力性质描述了胶体颗粒的生长和团簇的形 成过程。引入纳米颗粒团聚机理对高压釜的填充度对溶胶流动性的影响进行了 解释。 结合薄膜表征和测量结果，详细地阐述了Zr02薄膜的晶相转变规律及其成 因。测试了薄膜