磁控溅射TiN膜工艺优化及其结构性能研究.pdfVIP

摘曼 摘要 TiN是第一个产业化并J1。泛应J}J的硬质薄膜材料，作为薄膜材料研究的基础，国内外关 丁它的制备和研究一直菲常活跃。本课题组曾对TjN薄膜进行了制备，但是薄膜颜色甲棕色， 硬度仅为1200kg／mm2，远远达不剑商埘TiN装饰膜及硬质膜的要求。此外由丁．对TiN薄膜 制备参数、微观结构及性能之间的关系了解其少，无法对TiN薄膜的结构及性能进行灵活有 效的控制。这也在一定程度限制了以TiN薄膜为基础的多元薄膜的研究工作进一步开展。 本文采用反应磁控溅射法制备TiN薄膜，以提高TiN薄膜装饰性能及力学性能为目的， 对TiN薄膜制备．T：艺参数进行优化。在此基础上进一步研究了衬底偏压及溅射功率等重要工 艺参数对TiN薄膜结构及性能的影响规律及影响机制，还讨论了衬底材料对TiN薄膜生长 的影响。 通过调整N2流量、溅射功率和偏压等_T艺参数对TiN薄膜的颜色及力学性能进行优化。 优化后的TiN薄膜颜色金黄，光泽度好，完全满足仿金装饰膜的要求；薄膜硬度从1200 薄膜与高速钢衬底结合良好；薄膜的微观结构从粗人的柱状品转变为纳米尺寸的致密结构。 偏压是影响薄膜结构和性能的关键』=艺参数。偏压有利r TiN薄膜{lll}择优生长，使 薄膜晶粒显著细化。偏压使TiN薄膜表面粗糙度降低并且表面致密，从而增加薄膜对光线的 反射率，改变薄膜的颜色：偏压使TiN薄膜硬度显著增加，能够达到2400kg／mm2。偏压使 薄膜颜色优化和硬度提高都是晶粒细化导致的。此外偏压会使薄膜内应力增大，导致薄膜与 衬底间的结合性能下降。 功率是影响薄膜结构和性能的另一个重要参数。TiN薄膜中Tj／N原子比和薄膜沉积速 率均随功率增大而增加；功率通过改变膜层中Ti／N原子含晕比来影响TiN薄膜的颜色，功 率较大时，薄膜呈银白色，功率较小时，薄膜旱棕色。 衬底材料会影响TiN薄膜的微观结构以及薄膜与衬底间的结合性能。特别是在偏压条件 下沉积薄膜时，衬底材料本身的物理性能会改变薄膜的生长条件从而影响薄膜的结构和性 能。 关键词：TiN硬质薄膜磁控溅射微观结构偏压溅射功率 Abstract TiNisthefirst and utilizedhardsolid film theresearch broadlycommercially material，and relevanttoTiNhavebeen activeathomeandabroad．Ourresearchonce theTiNfilm groupprepared butthe werenotso colorwasbrowninstead itsmicrohardness properties 900d．Its ofgolden，and was 1 TiN the our couldbeusedasneitherdecorativenor just200kg／mm。．Sopreparedby group hardsolidfilms．Sincethe the and ofTiN relationshipamongprocessing,microstructure properties filmswere microstructureand ofTiN be absent，the proper