脉冲激光沉积（LD）法制备NiZn铁氧体多晶薄膜研究.pdfVIP

一 脉冲激光沉积(PLD)法制各NiZn铁氧体多晶薄膜研究 、互59073褂晏 摘 要 氧体薄膜，研究了成膜机制和制备高性能NiZn铁氧体薄膜的条件，并分析了薄膜的 微观结构、磁性能与沉积过程的关系。通过SEM、XRD、VSM等分析表明：薄膜的 主晶相为尖晶石结构，不同基片上薄膜晶粒尺寸均随基片温度升高而增大，但硅基片 上薄膜在(400)晶面具有一定的择优取向；薄膜的沉积速率随基片温度升高呈现先增 大后下降的趋势，且在玻璃基片上沉积速率随基片温度的变化更为敏感；随着氧压的 升高，虽沉积速率逐渐下降，但其磁性能逐步变优；热处理可改善薄膜的磁性能，尤 其对较低温度下制备的样品，热处理的作用十分明显；提高基片温度、氧压和热处理 对薄膜磁性能的改善有明显作用；外加偏磁场有助于提高室温下制备的薄膜的磁性 能。 关键词：脉冲激光沉积PLDj：Nizn铁氧体；薄膜；微观结构旬磁性能 。j 1 学生姓名 奚小网 指导教师 陈亚杰 2002、5 脉冲激光沉积(PLD)法制备NiZn铁氧体多晶薄膜研究 摘要 ABSTRACT Inthis I the NiZnferritefilmsin paperdeposited different condition technological by the PLD studiedthe technique，andmicrostmcturaland of magnetic films，and properties the conditionsthat filmswere SEM，XRDand given highquality deposited．The VSM revealed thatthemain offilmsis structure．Withof crystalline phase spinel increasing substrate sizeincreases．Theon temperature，crystallinegrain filmsSisubstrate were[400】 ratefilms of increasedwit