而r-chart是用來監視誤差的變異數。-雲林科技大學工業工程與管理系.ppt

10 On The Monitoring of Linear Profiles 指導教授： 童超塵 作者：KEUNPYO KIM, MAHMOUD A. MAHMOUD, and WILLIAM H.WOODALL 主講人： 鍾承利 前言 Phase II Methods ARL Comparisons Phase I Methods Conclusions 在此篇paper所建議用來監試過程的控制圖方法之使用時機是在過程或產品是被迴歸線所描述時。 在Phase I中，所建議的方法是將二維 圖與Shewhart chart合併使用，其中 圖是用來確認迴歸係數的穩固，而Shewhart chart則是用來確認變異數的穩定。 在Phase II中，所建議的方法是使用三個單變異的控制圖，此三個控制圖是個別用來監視Y的截距、斜率和誤差的變異數。 在此篇paper裡，為了要確認所提出的方法的好壞，便與Kang and Albin (2000)所提出的二種用來監視過程的控制圖的策略做比較。 第一種方法的運用包括了多重 chart；第二種方法是將EWMA chart 和 R-chart 作結 合，其中EWMA chart 是用來監視誤差的平 均數，而R-chart 是用來監視誤差的變異數。 Phase II Methods 假設觀察值為成對樣本 且測量過程是在統計控制下，則可得到一個基本的模型1 ~ N(0, ) 為了簡化問題，便假設x的值是固定的並來自同一個空間，且 and 是已知的。 Kang and Albin (2000) 在迴歸參數都已 知時，所提出的監視過程的第一種方法，二維 chart，是使用最小平方法求得 有 個 樣本時之估計量 。 在 個樣本下，其參數估計式為 and 且 和 有一二維常態的關係，其平均數向量和共變異數矩陣為 和 給定一個向量定義為 則可將 之統計量寫成 當過程是在控制下時， 便會服從一個自由度為2的中心卡方分配且其 。 當位移發生在受控制下的參數時，則 之統計量將會服從一個非中心的卡方分配並有一個新的參數 。 在Kang and Albin (2000) 的研究中，用來評估 之ARL記作 第二種方法是先計算殘差，當有 個樣本時，其殘差表示方式和平均數為 and 。 那麼EWMA chart 之統計量 為 其控制圖的上下限分別為 接著是定義用來與EWMA chart 結合的R-chart之統計量 而R-chart的控制界限為 之所以要將EWMA chart 和R-chart 結合的理由有二個，一個是EWMA chart 對過程的變異數的位移並不敏感；另一個是當殘差的數量增加時且殘差平均變小時， EWMA chart 對斜率和截距的位移並不敏感。 此篇paper建議的方法是，首先先對x的值做轉換，使其平均數變0，接著是重新定義迴歸的基本方程式，得到一基本模型2 接著便對Y的截距、斜率和過程的變異數做出三個個別的EWMA chart。 截距的EWMA 之統計量與控制界限為 and 接著利用ARL與Kang and Albin (2000) 所提出的二種方法比較在模型1下之結果為table 1與figure 1。 斜率的EWMA統計量和控制界限為 and 同樣的與Kang and Albin (2000) 的二種方法在模型1下做比較得到table 2與figure 2。 最後是EWMA用來檢驗過程的變異在只有增加的情形下之統計量和控制上限為 一樣與Kang and Albin (2000) 的二種方法做比較得到table 3與figure