薄膜沉积技术和工艺培训-7月23日.pdf

薄膜沉积技术与工艺 加工平台 1 主要内容  引言  薄膜的一般特性  物理气相沉积（PVD ） 原理与工艺  化学气相沉积（CVD ）原理与工艺  氧化 原理与工艺 2 主要内容  引言  薄膜的一般特性  PVD 原理与工艺  CVD 原理与工艺  氧化 原理与工艺 3 MOS晶体管中的薄膜层 氮化硅