pH值和热处理对氧化亚铜薄膜结构和光学性能的影响.pdfVIP

浙江理工大学学报 (自然科学版)，第31卷，第4期，2014年 7月 JournalofZhejiangSci—TechUniversity(NaturalSciences) Vo1．31，No．4，Ju1．2014 文章编号 ：1673—3851(2014)04—0406—07 pH值和热处理对氧化亚铜薄膜结构和光学性能的影响 杨静静 ，张 雪，张晨纯 ，李秋旭 ，汪 琼 ，王龙成 (浙江理工大学材料工程中心，杭州 310018) 摘 要：在三电极电化学池中，以IT()透明导电玻璃作为工作电极，在硫酸铜一乳酸钠体系中采用恒电位电化学 沉积法制备Cu20薄膜，并讨论pH值和热处理对Cu20薄膜结构和光学性能的影响。利用x射线衍射仪(XRD)，场 发射扫描电镜 (FESEM)和紫外 可见光光谱仪 (uv_vis)表征CuzO薄膜物相结构、表面形貌以及光学性能。结果表 明：沉积溶液的pH值和热处理均可提高Cu。O薄膜结晶性能，随着pH值的增加CuzO薄膜的禁带宽度降低，热处 理对Cuz()薄膜的禁带宽度影响不大。 关键词：电化学沉积法法；Cu2O薄膜；pH值；热处理；禁带宽度 中图分类号：TQ153．3 文献标志码 ：A 工艺过程，具有沉积速率高、易操作、设备简单、成本 O 引 言 低、环境友好、适合于大规模工业生产等优点。 CuO是一种具有优 良特性的过渡金属族氧化 沉积溶液的pH值是电化学沉积过程的一个重 物，在太阳能电池、传感器[1]、超导体l3]、磁器件、 要工艺参数 。Golden等[1已经证实 电解质溶液中 光催化l5]和电致变色l7{等方面具有广泛的应用前 pH值可 以控制氧化亚铜 晶体不同晶面的生长速 景。Cu：O是一种典型的立方结构P型半导体氧化 度，从而影响薄膜的晶体取 向和表面形貌 。BijaniS 物，带隙为 1．9～2．2eVc，在可见光范围的吸收系 等_】]研究表明沉积溶液 pH=9时Cu2()薄膜(200) 数很高，具有很好的可见光响应，理论光电转化效率 晶面择优取向，pH一12时(200)晶面择优取向。但 高达 20 ，在太阳能电池的光吸收层方面具有很好 是Golden和 BijaniS等均没有对 pH值如何影响 的应用 。实现半导体材料光响应的前提条件是电子 CuO薄膜 晶体结构 的机理作出合理的解释 。此 受激发跃迁所吸收的光子能量必须大于半导体材料 外，热处理也是材料制备的一个重要的工艺过程 ，对 的禁带宽度，实现电子和空穴的分离。禁带宽度是 材料的性能有很重要的影响。直接沉积的薄膜不够 一 个重要的特性参量，其大小反应了价电子被晶体 稳定，在实际应用中往往达不到要求，热处理工艺可 束缚的强弱和产生本征激发所需的能量。 以改善这些不稳定的因素，提高薄膜的性能。本文 目前有很多方法可制备氧化亚铜薄膜 ，如电化 在硫酸铜和乳酸钠体系中，将系统讨论沉积溶液 学沉积l】“]、溶胶一凝胶法l】、磁控溅射法口引、热氧 pH值和热处理对Cu。O薄膜晶体结构和光学性能 化法 l1、化学气相沉积、阳极氧化法、脉冲激光沉积 的影响，并对其机理进行探讨。 法l1等。但是其 中有些方法的工艺过程 比较复杂， 1 实验部分 而且高温工艺会引起氧扩散和晶格膨胀而导致位错 缺失、晶格畸变甚至高温分解，增加光电转换过程中 以ITO (氧 化 铟锡 )导 电玻 璃 为 衬 底 ，在 载流子的复合几率而降低太阳能电池效率。相对于 CHI600C电化学工作站上采用三电极恒 电位 电化 其它制备方法，电化学沉积法是一种低温易操作的