真空镀膜及材料生长.docVIP

实验3：真空镀膜及材料生长 周震亚 华中科技大学物理学院 应用物理1101班 U201110249 摘要：真空 直流溅射 镀膜 金属薄膜的吸光度/透射率 金属薄膜结构 实验内容： 根据提供的设备和材料，制定清洗衬底的方案 采用小型直流溅射仪，在清洗干净的衬底上制备金属薄膜 运用紫外分光光度计，测量金属薄膜的吸光度/透射率，分析与之间的联系 “真空”是指低于一个大气压的气体状态。在真空技术中，以“真空度”来表示气体的稀薄程度，真空度越高，气体压强越低。通常气体的真空度直接用气体的压强来表示，常用单位为帕斯卡（Pa）或毫米汞柱（mmHg）——简称乇（Torr），它们之间的关系为： 1毫米汞柱（mmHg）=1乇（Torr）=133帕斯卡（Pa）。 在物理学中，真空度分为粗真空（105 ～102 Pa），低真空（102 ～10-2 Pa），高真空（10-2 ～10-6 Pa），超高真空（10-6 ～10-10 Pa）和极高真空（10-10 Pa）。 直流溅射镀膜技术 所谓“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶材），使固体表面的原子（或分子）从表面射出的现象。这些从固体表面射出的粒子大多呈原子状态，通常称为被溅射原子。常用的轰击靶材的荷能粒子为惰性气体离子（如氩离子）和快速中性粒子，它们又被称为溅射粒子。溅射粒子轰击靶材，从而使靶材表面的原子离开靶材表面成为被溅射原子，被溅射原子沉积到衬底上就