离子注入二要点分析.pptVIP

4.5 离子注入设备与工艺 偏束板 离子束在运动过程中可以和热电子发生电荷交换，形成中性粒子，影响注入均匀性 加入静电偏转电极，一般5度左右，中性束不能偏转而去除 4.5 离子注入设备与工艺 靶室 样品架 法拉第杯（控制注入剂量） 第四章 离子注入-作业 要求：11月4日上课交作业，或发送至 xyfan@。 1.比较离子注入与热扩散工艺，分析两者各自的优缺点。 2.试用LSS理论分析离子注入的基本原理，入射离子能量损失的两种模型各是什么？ 2. 简述沟道效应的形成机理，并给出减弱或消除沟道效应的几种措施。 3. 离子注入后为何要进行退火热处理？ 4. 快速热退火的主要优点是什么？ * 第四章 离子注入-作业 /show/-JP8k1MK7kT9fziZnp4v-A...html /programs/view/fLp7hS0elT0 /us55069984.shtml /patently-apple/2014/08/apple-reveals-a-multi-step-process-to-strengthen-sapphire-glass-in-a-new-european-patent-filing.html * * 苹果 蓝宝石，sapphire * * * * * * * * * 集成电路工艺原理 * * 集成电路工艺原理 * * 集