CrN基复合薄膜的结构及机械性能.docVIP

ＧｒＮ基复合薄膜的结构及机械性能 张广安１，王立平１，张俊彦１，闰鹏勋２，薛群基１ （１．中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室， 甘肃兰州 ７３００００；２．兰州大学等离子体与金属材料研究所， 甘肃兰州 ７ ３００００）  摘要：采用反应磁控溅射制备了几种ＣｒＮ基复合薄膜。研究了复合对ＣｒＮ薄膜的 结构和摩擦磨损性能的影响。结果表明：所制备的合金复合薄膜中Ａｌ与Ｔｉ均以置换 方式固溶于ＣｒＮ中，取代了一部分Ｃｒ原子，形成固溶体的合金复合薄膜；而ＣｒＳｉＮ 与ＣｒＢＮ纳米复合薄膜均为纳米晶／非晶复合结构，其中ＣｒＮ均为纳米晶，而薄膜中 的Ｓｉ与Ｂ均以非晶的氮化物形式存在于ＣｒＮ晶粒的粒界中；复合薄膜的机械性能均 有不同程度的提高。 关键词：ＣｒＮ薄膜；磁控溅射；复合：机械性能 过渡族金属氮化物薄膜因其具有的硬度和抗磨损性能优势，广泛用作切削和 成型工具表面改性。ＣｒＮ膜同已经得到广泛工业应用的ＴｉＮ膜相比，它的内应力低、 韧性好、耐磨性好、膜层可以做得较厚，同时它具有精细晶粒结构、结合力强、 化学稳定性高和７００以下良好的热稳定性，更具有实用价值。目前已有多种方法 如真空阴极电弧等离子体沉积、离子束溅射沉积、磁控溅射等用于ＣｒＮ薄膜的制备。 其中磁控溅射作为一种高速率沉积手段备受工业界的重视。为满足特殊使用条件 的要求，制备的耐磨涂层己向多元化、合金化、纳米化、多层化等复合方向发展， 以期提高膜层性能，取得更大的应用价值。本文从复合化的角度，选择几类合金 元素复合，考察复合对ＣｒＮ膜层的结构与摩擦磨损性能的影响。 １实验过程 本实验采用反应磁控溅射系统在在ｐ（１１１）硅片表面制备薄膜。沉积ＣｒＮ薄膜， 所用的靶为Ｃｒ靶（纯度为９９，８％）；复合薄膜则采用Ｃｒ靶与ｎ靶（纯度为９９．６％）【或金 属Ａｌ靶（纯度为９９．９％）、Ｓｉ靶（纯度为９９．８％）、Ｂ靶（纯度为９９．６％）】孪生靶共溅射， 所用的工作气体为高纯Ｎ２和Ａｔ（纯度均大于９９．９９％）。 采用Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｘ’ｐｅｒｔｓ Ｘ射线衍射仪分析薄膜的晶体结构。合金氮化物薄膜的成 分分析采用ＪＳＭ．５６００ ＬＶ型扫描电子显微镜上的能谱（ＥＤＸ）分析仪。采用场发射扫 描电镜（Ｈｉｔａｃｈｉ，Ｓ－４８００）观察薄膜的断面形貌。采用英国Ｍｉｃｒｏ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ’基金项目：国家自然科学基金资助项耳． ｍ制造的 Ｎａｎｏｔｅｓｔ  ６００型纳米压痕仪测定薄膜的硬度，为减小衬底对薄膜硬度测量结果的影 响，采用定深１００ ｎｍ的模式进行测量，取测量５次的平均值。 在无润滑条件下，采用ＵＭＴ－２ＭＴ型多功能微摩擦磨损测试系统考察薄膜的摩 擦磨损性能，对偶件为０３ ｍｉｌｌ的ＧＣｒｌ５钢球（表面粗糙度Ｒａ＜０．０５岬，硬度６１ＨＲＣ）。 摩擦磨损试验条件为：法向载荷１ Ｎ、滑动频率为２Ｈｚ、单次滑动行程５ １１１１１１、试验 时间１０ ｍｉｎ。采用ＭｉｃｒｏＸａｍ型三维表面形貌仪测量磨痕轮廓评价薄膜的耐磨性能。 ２实验结果及讨论 通过ＥＤＳ检测所制备的复合薄膜的成分，结果见下表。 所制备的ＣｒＴｉＮ与ＣｒＡｌＮ合金复合薄膜的结构是与ＣｒＮ类似的面心立方结构， 均出现了（１１ １）、（２００）、（２２２）衍射峰，而且没有独立的ＴｉＮ相和ＡＩＮ相的衍射峰出 现，说明Ｔｉ与Ａｌ均以置换方式固溶于ＣｒＮ中，取代了一部分Ｃｒ原子，形成单相 固溶合金复合薄膜；合金复合薄膜呈现柱状生长，且连接紧密，间距很小，结构 细致、密实。而ＣｒＳｉＮ与ＣｒＢＮ复合薄膜为纳米晶／非晶复合结构，其中ＣｒＮ均为 纳米品，而薄膜中的Ｓｉ与Ｂ均以非晶的氮化物形式存在于ＣｒＮ晶粒的粒界中；由 于非金属元素的引入形成的非晶氮化物层会限制薄膜中晶相颗粒的生长，起到细 化晶粒的作用，导致结晶颗粒尺寸和含量减少，从而形成了较为致密的结构导致 薄膜更加致密，断面没有出现明显的柱状结构，呈致密的玻璃态结构。ＸＲＤ结果 也说明复合薄膜的晶粒明显细化。因此，采用两种金属靶在Ａｔ／Ｎ２混合气氛中反应 共溅射方法可制备出合金形式的氮化物复合薄膜；而采用金属Ｃｒ靶与非金属Ｓｉ 或Ｂ靶在Ａｒ／Ｎ２混合气氛中反应共溅射方法可制备出纳米晶／非晶氮化物复合薄膜。 复合薄膜的机械性能均有不同程度的提高。ＣｒＴｉＮ复合薄膜的硬度虽然没有明 显的增高，Ｔｉ含量为３１．７５％的ＣｒＴｉＮ合金复合薄膜的摩擦系数很低，低至０．３以下， 磨损率也很低，仅仅为ＣｒＮ薄膜磨损率的３０％左右；而Ａｌ含量为４８．４％的ＣｒＡｌＮ合 金复合薄膜的硬度极大提高，高达３３．４ＧＰａ，虽然在摩擦过程中没有明显的减摩润 滑作用，但薄