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提升水冷系统温度控制精度的实验研究 　　【摘 要】光刻机环境温度控制要求水冷系统的温控精度高（±0.01℃）、响应速度快。本文对影响温控精度的各种因素进行研究分析，并基于目前±0.1℃的水冷系统，提出增加制冷旁通、水冷旁通、增大冷却水供应流量、降低加热功率等改进措施，并进行实验研究。研究结果表明：改进后系统的温控精度达到±0.01℃、对外流量与系统响应速度不发生变化。 　　【关键词】水冷系统；温度控制；旁通回路；压缩机制冷 　　【Abstract】The environment temperature control of lithography requires high-precision（±0.01℃）， rapid respond of cooling water circuit system. After studying on influence factors of temperature control， on the basis of ±0.1℃ cooling water circuit system， bring forward optimizing measures： adding refrigeration bypass， adding water circuit bypass， increasing cooling water flux， decre